發(fā)射裝置基座自頂而下設計策略研究與應用
發(fā)布時間:2024-01-23 20:31
為了實現(xiàn)發(fā)射裝置基座設計快速響應,通過引入自頂而下設計理念以縮短產(chǎn)品研制周期;贑reo三維設計軟件,根據(jù)發(fā)射裝置基座設計要求,制定以top-down骨架法為主、借助top-down主控模型思想的自頂而下設計準則與策略,完成了發(fā)射裝置基座自頂而下的設計。結果表明,采用該自頂而下設計策略的發(fā)射裝置基座能更好體現(xiàn)設計者意圖,實現(xiàn)產(chǎn)品協(xié)同化、系列化設計,有效縮短發(fā)射裝置基座的研制周期。
【文章頁數(shù)】:5 頁
本文編號:3883321
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圖1自頂而下和自底而上設計示意圖
圖2Top-down骨架模型框圖
圖3Top-down主控零件創(chuàng)建框圖
圖4基座總體結構規(guī)劃
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