高速列車鋁合金車體底架大橫梁采用A7N01鋁合金加工而成,由于車體底架大橫梁吊掛用滑槽因空間狹小,施工困難,現(xiàn)有涂裝體系不能有效保證底架大橫梁整體膜層的制備,從而使底架大橫梁防護(hù)質(zhì)量得不到有效保證,尤其是高鐵在較差的環(huán)境中服役時(shí),腐蝕問(wèn)題會(huì)嚴(yán)重影響底架大橫梁的使用壽命。微弧氧化技術(shù)能在鋁合金表面生成一層氧化鋁陶瓷層,所得陶瓷層具有耐磨、耐蝕性能好,電絕緣性能好和與基體結(jié)合緊密等優(yōu)點(diǎn),但由于該技術(shù)具有高電壓、大電流和單位面積所耗能量大等特點(diǎn),無(wú)法實(shí)現(xiàn)大尺寸工件膜層的整體制備,本文提出了采用移動(dòng)式陰極噴頭對(duì)A7N01鋁合金大橫梁進(jìn)行整體處理的思路。在原有的浸入式微弧氧化處理系統(tǒng)上設(shè)計(jì)了陰極噴頭控制系統(tǒng)和電解液循環(huán)系統(tǒng)形成移動(dòng)式陰極噴頭微弧氧化處理系統(tǒng)。研究了移動(dòng)掃描式陰極結(jié)構(gòu)微弧放電電場(chǎng)特性及膜層均勻性,實(shí)現(xiàn)了微弧氧化處理工藝參數(shù)的優(yōu)化,其中包括網(wǎng)柵陰極內(nèi)嵌深度、電參數(shù)、電極距和掃描參數(shù)。采用渦流測(cè)厚儀和粗糙度儀對(duì)膜層厚度和粗糙度進(jìn)行了測(cè)量;采用掃描電鏡（SEM）、X射線能譜儀（EDS）和X射線衍射儀（XRD）分析了膜層組織和結(jié)構(gòu);采用萬(wàn)能實(shí)驗(yàn)拉伸機(jī)、顯微硬度計(jì)測(cè)試了試樣的力學(xué)性能;采用點(diǎn)... 

【文章來(lái)源】：西南交通大學(xué)四川省 211工程院校 教育部直屬院校

【文章頁(yè)數(shù)】：104 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
abstract
第1章 緒論
    1.1 研究背景
    1.2 鋁合金常見(jiàn)的腐蝕機(jī)理及類型
        1.2.1 點(diǎn)蝕
        1.2.2 晶間腐蝕
        1.2.3 應(yīng)力腐蝕
        1.2.4 電化學(xué)腐蝕
    1.3 鋁合金傳統(tǒng)防護(hù)工藝
        1.3.1 熱噴涂
        1.3.2 激光熔覆
        1.3.3 陽(yáng)極氧化
    1.4 微弧氧化技術(shù)概述
        1.4.1 微弧氧化技術(shù)及其工藝特點(diǎn)
        1.4.2 微弧氧化技術(shù)研究現(xiàn)狀
    1.5 本課題的意義及內(nèi)容
        1.5.1 本課題的意義
        1.5.2 本課題主要研究?jī)?nèi)容
第2章 試驗(yàn)材料及研究方法
    2.1 試驗(yàn)材料
    2.2 試驗(yàn)設(shè)備及工藝流程
    2.3 測(cè)試方法及設(shè)備
        2.3.1 陽(yáng)極表面電位測(cè)試
        2.3.2 組織結(jié)構(gòu)測(cè)試方法及設(shè)備
        2.3.3 微弧氧化處理前后力學(xué)性能測(cè)試
        2.3.4 耐腐蝕性能測(cè)試
第3章 移動(dòng)掃描式陰極結(jié)構(gòu)微弧放電電場(chǎng)特性及膜層均勻性
    3.1 柵網(wǎng)陰極內(nèi)嵌深度對(duì)電場(chǎng)及涂層厚度的影響
        3.1.1 柵網(wǎng)陰極內(nèi)嵌深度對(duì)電場(chǎng)分布的影響
        3.1.2 柵網(wǎng)陰極內(nèi)嵌深度對(duì)膜層厚度的影響
    3.2 電參數(shù)對(duì)電場(chǎng)及膜層厚度的影響
        3.2.1 電壓幅值對(duì)電場(chǎng)及涂層厚度的影響
        3.2.2 頻率對(duì)電場(chǎng)及膜層厚度的影響
        3.2.3 占空比對(duì)電場(chǎng)及膜層厚度的影響
    3.3 電極距離對(duì)電場(chǎng)及膜層厚度的影響
        3.3.1 電極距離對(duì)電場(chǎng)分布的影響
        3.3.2 電極距離對(duì)膜層厚度的影響
    3.4 陰極掃描參數(shù)對(duì)微弧氧化膜層均勻性影響
        3.4.1 掃描速度對(duì)膜層均勻性的影響
        3.4.2 處理次數(shù)對(duì)膜層均勻性的影響
        3.4.3 重疊率對(duì)膜層均勻性的影響
    3.5 本章小節(jié)
第4章 大橫梁A7N01 鋁合金微弧氧化膜層電解液優(yōu)化
    4.1 電解液組分優(yōu)化設(shè)計(jì)
        4.1.1 電解液體系選擇的原則
        4.1.2 電解液組分正交實(shí)驗(yàn)優(yōu)化
    4.2 A7N01 鋁合金微弧氧化膜層形貌及組織特征
        4.2.1 膜層表面及截面形貌分析
        4.2.2 膜層的組織結(jié)構(gòu)分析
    4.3 A7N01 鋁合金微弧氧化膜層的腐蝕性能
        4.3.1 有無(wú)膜層試樣的鹽霧腐蝕性能
        4.3.2 有無(wú)膜層試樣的極化曲線
        4.3.3 有無(wú)膜層試樣的交流阻抗
    4.4 本章小節(jié)
第5章 大橫梁焊接焊接頭局部微弧氧化處理
    5.1 A7N01 鋁合金接頭微觀組織
    5.2 A7N01 鋁合金接頭微弧氧化膜層形貌及組織特征
        5.2.1 接頭微弧氧化膜層表面及截面形貌
        5.2.2 接頭微弧氧化膜層微區(qū)成分分析
        5.2.3 接頭微弧氧化膜層微區(qū)相結(jié)構(gòu)分析
    5.3 微弧氧化對(duì)A7N01 鋁合金焊接接頭力學(xué)性能影響
        5.3.1 對(duì)接頭拉伸性能的影響
        5.3.2 對(duì)接頭表面硬度分布的影響
    5.4 A7N01 鋁合金有無(wú)膜層試樣的腐蝕性能
        5.4.1 對(duì)接頭應(yīng)力腐蝕性能的影響
        5.4.2 對(duì)接頭電化學(xué)腐蝕的影響
    5.5 本章小節(jié)
第6章 底架大橫梁整體微弧氧化處理及其均勻性
    6.1 大橫梁整體微弧氧化處理工藝
    6.2 大橫梁整體微弧氧化處理均勻性
        6.2.1 厚度均勻性
        6.2.2 粗糙度均勻性
        6.2.3 耐蝕性能均勻性
    6.3 本章小結(jié)
結(jié)論
致謝
參考文獻(xiàn)
攻讀碩士期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文及專利


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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碩士論文
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