本文關(guān)鍵詞：SKP和LEIS技術(shù)在電化學(xué)腐蝕研究中的應(yīng)用進(jìn)展

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【摘要】：介紹了掃描開爾文探針(SKP)和局部電化學(xué)阻抗譜(LEIS)兩種先進(jìn)的微區(qū)電化學(xué)測量技術(shù)的原理和優(yōu)點以及目前主要的應(yīng)用領(lǐng)域,綜述了兩種技術(shù)在縫隙腐蝕、點蝕和孔蝕、微生物菌腐蝕以及其他類型腐蝕研究中的應(yīng)用進(jìn)展。結(jié)果表明,兩種測量技術(shù)對宏觀的電化學(xué)測量技術(shù)有著很好的補(bǔ)充和完善作用。展望了兩種技術(shù)的未來發(fā)展趨勢。
【作者單位】： 重慶科技學(xué)院安全工程學(xué)院;重慶市安全生產(chǎn)科學(xué)研究院;重慶科技學(xué)院法政與經(jīng)貿(mào)學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： SKP LEIS 縫隙腐蝕 點蝕 孔蝕 微生物腐蝕
【基金】：國家自然科學(xué)基金項目(51304259,51254001) 重慶科技學(xué)院研究生科技創(chuàng)新項目(YKJCX2014029)資助
【分類號】：TG174.3
【正文快照】： 0前言近年來宏觀電化學(xué)測量技術(shù)在研究材料腐蝕方面獲得了廣泛的應(yīng)用,電化學(xué)阻抗譜(ElectrochemicalImpedance Spectroscopy,EIS)以及電化學(xué)極化曲線技術(shù)在宏觀方面對金屬的腐蝕過程和機(jī)理進(jìn)行了大量表征[1~4]。但隨著腐蝕研究的不斷發(fā)展和深入,傳統(tǒng)的宏觀電化學(xué)測量技術(shù)已經(jīng)

【相似文獻(xiàn)】

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