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SKP和LEIS技術在電化學腐蝕研究中的應用進展

發(fā)布時間:2017-08-17 08:20

  本文關鍵詞:SKP和LEIS技術在電化學腐蝕研究中的應用進展


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【摘要】:介紹了掃描開爾文探針(SKP)和局部電化學阻抗譜(LEIS)兩種先進的微區(qū)電化學測量技術的原理和優(yōu)點以及目前主要的應用領域,綜述了兩種技術在縫隙腐蝕、點蝕和孔蝕、微生物菌腐蝕以及其他類型腐蝕研究中的應用進展。結(jié)果表明,兩種測量技術對宏觀的電化學測量技術有著很好的補充和完善作用。展望了兩種技術的未來發(fā)展趨勢。
【作者單位】: 重慶科技學院安全工程學院;重慶市安全生產(chǎn)科學研究院;重慶科技學院法政與經(jīng)貿(mào)學院;
【關鍵詞】SKP LEIS 縫隙腐蝕 點蝕 孔蝕 微生物腐蝕
【基金】:國家自然科學基金項目(51304259,51254001) 重慶科技學院研究生科技創(chuàng)新項目(YKJCX2014029)資助
【分類號】:TG174.3
【正文快照】: 0前言近年來宏觀電化學測量技術在研究材料腐蝕方面獲得了廣泛的應用,電化學阻抗譜(ElectrochemicalImpedance Spectroscopy,EIS)以及電化學極化曲線技術在宏觀方面對金屬的腐蝕過程和機理進行了大量表征[1~4]。但隨著腐蝕研究的不斷發(fā)展和深入,傳統(tǒng)的宏觀電化學測量技術已經(jīng)

【相似文獻】

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本文編號:687985

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