半球諧振子磁流變拋光的關鍵技術研究
【文章頁數(shù)】:130 頁
【學位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1-1半球諧振陀螺儀結構及半球諧振子[5]
哈爾濱工業(yè)大學工學博士學位論文-2-0.1°/h~10°/h,商業(yè)級陀螺零偏穩(wěn)定性為10°/h~1000°/h。a)半球諧振陀螺結構b)半球諧振子實物a)MechanicalstructureofHRGb)Hemisphericalshellresonator圖1-1半球諧振陀螺....
圖1-2磁流變拋Fig.1-2Schematicdiagr
法相比,電流變拋光加工工藝相對復雜且其材料去除率較低[24,25]。通過在對各種拋光方法加工原理與工藝特點進行對比分析的基礎上,本文提出采用磁流變拋光方法(Magnetorheologicalfinishing,MRF)對半球諧振子零件進行拋光加工。磁流變拋光方法以磁流變液為工作....
圖1-5不同曲率半徑工件的磁流變拋光去除函數(shù)[44]
第1章緒論-9-曲面或直徑在100mm以下光學零件的拋光加工。德國代根多夫應用技術大學(DeggendorfInstituteofTechnology)的研究人員實驗研究了工件表面曲率半徑的變化對磁流變拋光材料去除特性的影響,利用磁流變拋光斑點實驗建立了幾種典型曲率半徑零件表面的....
圖1-6A.K.Singh等研制的磁流變拋光裝置[47]
哈爾濱工業(yè)大學工學博士學位論文-10-圖1-6A.K.Singh等研制的磁流變拋光裝置[47]Fig.1-6MRFdevicedevelopedbyA.K.Singh[47]印度理工學院的A.Sidpara等人實驗預測了磁流變拋光單晶硅的加工參數(shù),如磁敏顆粒與磨粒濃度、拋光液相對....
本文編號:3969780
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