半球諧振子磁流變拋光的關(guān)鍵技術(shù)研究
【文章頁(yè)數(shù)】:130 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖1-1半球諧振陀螺儀結(jié)構(gòu)及半球諧振子[5]
哈爾濱工業(yè)大學(xué)工學(xué)博士學(xué)位論文-2-0.1°/h~10°/h,商業(yè)級(jí)陀螺零偏穩(wěn)定性為10°/h~1000°/h。a)半球諧振陀螺結(jié)構(gòu)b)半球諧振子實(shí)物a)MechanicalstructureofHRGb)Hemisphericalshellresonator圖1-1半球諧振陀螺....
圖1-2磁流變拋Fig.1-2Schematicdiagr
法相比,電流變拋光加工工藝相對(duì)復(fù)雜且其材料去除率較低[24,25]。通過(guò)在對(duì)各種拋光方法加工原理與工藝特點(diǎn)進(jìn)行對(duì)比分析的基礎(chǔ)上,本文提出采用磁流變拋光方法(Magnetorheologicalfinishing,MRF)對(duì)半球諧振子零件進(jìn)行拋光加工。磁流變拋光方法以磁流變液為工作....
圖1-5不同曲率半徑工件的磁流變拋光去除函數(shù)[44]
第1章緒論-9-曲面或直徑在100mm以下光學(xué)零件的拋光加工。德國(guó)代根多夫應(yīng)用技術(shù)大學(xué)(DeggendorfInstituteofTechnology)的研究人員實(shí)驗(yàn)研究了工件表面曲率半徑的變化對(duì)磁流變拋光材料去除特性的影響,利用磁流變拋光斑點(diǎn)實(shí)驗(yàn)建立了幾種典型曲率半徑零件表面的....
圖1-6A.K.Singh等研制的磁流變拋光裝置[47]
哈爾濱工業(yè)大學(xué)工學(xué)博士學(xué)位論文-10-圖1-6A.K.Singh等研制的磁流變拋光裝置[47]Fig.1-6MRFdevicedevelopedbyA.K.Singh[47]印度理工學(xué)院的A.Sidpara等人實(shí)驗(yàn)預(yù)測(cè)了磁流變拋光單晶硅的加工參數(shù),如磁敏顆粒與磨粒濃度、拋光液相對(duì)....
本文編號(hào):3969780
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