隨著制造業(yè)的發(fā)展,對各種零部件質(zhì)量要求逐步提高,尤其是高端裝備的發(fā)展導(dǎo)致其零部件表面質(zhì)量要求越來越高,以滿足使用性能和服役需求。滾磨光整加工技術(shù)不僅能夠提高零件表面質(zhì)量,而且能夠改善其物理力學(xué)性能,已廣泛應(yīng)用于各種零件的終加工工序中,有效改善零件的表面完整性。渦流式滾磨光整加工具有加工作用力大、效率高、便于實現(xiàn)自動化和并入柔性制造系統(tǒng)(FMS)等優(yōu)點,但由于加工過程中存在固定筒壁和回轉(zhuǎn)底盤之間容易磨損、工件磕碰等問題限制了其應(yīng)用。本文基于離散單元法對渦流式滾磨光整加工中的滾拋磨塊進行運動學(xué)模擬仿真,對滾拋磨塊的渦流運動特征進行研究。同時借鑒主軸式滾磨光整加工工藝,提出在渦流式滾磨光整加工中將工件固定的加工方式,并以模擬仿真、力的測試以及加工實驗進行了研究,分析不同固定位置與不同固定角度的影響。具體如下:(1)利用離散元軟件EDEM進行滾拋磨塊運動的模擬仿真,分析轉(zhuǎn)速、裝填量對于滾拋磨塊渦流運動的速度分布、爬升高度與徑向分布寬度的影響規(guī)律,得知:滾拋磨塊運動主要分為3個區(qū)域:1.渦流區(qū)域;2.回轉(zhuǎn)底盤區(qū)域;3.固定筒壁區(qū)域�；剞D(zhuǎn)底盤區(qū)域的滾拋磨塊平均速度最大,約是渦流區(qū)域滾拋磨塊平均速度...

【文章頁數(shù)】：83 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

圖1-2渦流式滾磨光整加工原理示意圖

如圖1-2所示。滾筒主要由回轉(zhuǎn)底盤與固定筒壁組成，固定筒壁與回轉(zhuǎn)底盤之間留有間隙（同時可用于排液），且在滾筒內(nèi)涂覆聚氨酯內(nèi)襯層。回轉(zhuǎn)底盤與轉(zhuǎn)軸相連，電機帶動轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)進而使得回轉(zhuǎn)底盤驅(qū)動筒內(nèi)物料做渦流運動。當(dāng)工件自由狀態(tài)加工時即將其與加工介質(zhì)一同放入滾筒內(nèi)，物料（工件、滾拋磨塊與....

圖2-1軟球模型對顆粒間接觸力的簡化

目前已有很多國內(nèi)外學(xué)者通過離散單元行研究，獲得較多成果[70][71][72][84][85]。本章采中滾拋磨塊的渦流運動進行模擬仿真分析粒接觸理論化值模擬中，需簡化顆粒單元模型以便于分析簡化模型。圖2-1為軟球模型的簡化，將顆和滑動器，將顆粒接觸時的表面變形簡化為間的法向重....

圖2-2Herz-Mindlin無滑移接觸模型

于稀疏快速的顆粒流。模型元法計算的核心是接觸模型，描述碰撞的過程本質(zhì)就是接觸的產(chǎn)接觸是離散單元法計算的重要基礎(chǔ)。接觸模型就是準(zhǔn)靜態(tài)下顆粒分析結(jié)果，對于不同的仿真對象必須建立不同的接觸模型，常用-mindlin無滑移接觸模型、Herz-Mindlin粘結(jié)接觸模型、線性粘附觸模型....

圖2-3滾拋磨塊參數(shù)設(shè)置Fig.2-3Parametersofmedia

滾拋磨塊顆粒群的運動及與工件的相互作用是非做如下基本假設(shè)：1）滾拋磨塊為剛性體，整體的運動變）滾拋磨塊之間的接觸為點接觸；3）滾拋磨塊在接觸點滾拋磨塊尺寸很小，滾拋磨塊本身的變形相對于其平移間步長內(nèi)，擾動不能從任何一滾拋磨塊同時傳遞到它的任一滾拋磨塊所受合力都可由與其接觸的滾拋磨....

本文編號：3966029