AlCrN/AITiSiN納米多層刀具涂層的制備及其性能研究
【文章頁(yè)數(shù)】:171 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖1-1化學(xué)沉積技術(shù)原理圖??Fig.?1-1?Schematic?diagram?of?chemical?vapor?deposition?technique??
陰極電弧離子鍍技術(shù)是把輝光放電、等離子體技術(shù)以及蒸發(fā)鍍技術(shù)綜合的涂層??制備技術(shù)。目前,陰極電弧離子鍍技術(shù)早己被運(yùn)用到切削工具、模具、汽車等領(lǐng)域。??圖1-2為華升公司MC800型號(hào)的電弧離子鍍涂層設(shè)備,也是本論文制備涂層采用的??設(shè)備。??3??
圖1-3陰極電弧離子鍍?cè)硎疽鈭D??Fig.?1-3?The?schematic?diagram?of?arc?ion?plating??
_?—、?I疆齡??jTi??ip??圖1-2華升公司MC?800型真空鍍膜設(shè)備??Fig.?1-2?The?vacuum?coating?equipment?(HuaSheng?MC?800)??圖1-3是陰極電弧離子鍍沉積技術(shù)原理。它利用弧光放電原理,在靶材表面產(chǎn)??生弧斑。....
圖1-2華升公司MC?800型真空鍍膜設(shè)備??Fi.?1-2?The?vacuum?coatineuimentHuaShenMC?800
圖1-2華升公司MC?800型真空鍍膜設(shè)備??Fig.?1-2?The?vacuum?coating?equipment?(HuaSheng?MC?800)??圖1-3是陰極電弧離子鍍沉積技術(shù)原理。它利用弧光放電原理,在靶材表面產(chǎn)??生弧斑。同時(shí),弧斑在強(qiáng)磁場(chǎng)的影響下快速在靶面旋....
圖1-5磁控濺射沉積原理示意圖
與陰極電弧法相比,磁控濺射法制備的涂層“大顆!毙、內(nèi)部缺陷少,表面??光滑。但磁控濺射離化率低,不易于提高生產(chǎn)效率。近年來,有不少方法提高離化??率。比如:高功率脈沖磁控濺射(HIPPMS),它通過提升靶功率密度峰值,提高了??等離子密度,增加了離化率。高功率脈沖磁控濺射能使濺....
本文編號(hào):3949081
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