本文采用了座滴法在高真空條件下測試了鋁熔體與氧化鋁、石墨、純鉻、純鎳、鍍鉻氧化鋁、鍍鎳氧化鋁以及鍍鉻石墨的潤濕行為。主要探究了不同鉻膜及鎳膜厚度對鋁熔體與氧化鋁基底潤濕行為的影響,以及不同鉻膜厚度對鋁熔體與石墨的基底的潤濕行為影響。并對鍍層對潤濕行為的影響的微觀機(jī)理進(jìn)行了分析。700℃以及800℃下鋁熔體與純鉻和鍍鉻氧化鋁基底的潤濕行為實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,氧化鋁基底上沉積鉻膜改善了基底與鋁熔體的潤濕性。當(dāng)沉積的鉻膜厚度從260nm逐漸增加到1200nm,平衡接觸角逐漸減小,鋪展速率逐漸提升。且溫度的提升更好地改善了潤濕性。700℃下鋁熔體與純鉻和鍍鉻石墨基底的潤濕行為實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,石墨基底上沉積鉻膜能顯著改善鋁熔體與石墨基底的潤濕性。當(dāng)沉積的鉻膜厚度從170nm逐漸增加到900nm,平衡接觸角逐漸減小,鋪展速率逐漸提升。且鍍層經(jīng)過熱處理后會改變鋁熔體在鍍鉻石墨上的潤濕性能。700℃下鋁熔體與純鎳和鍍鎳氧化鋁基底的潤濕行為實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,氧化鋁基底上沉積鎳膜能顯著改善鋁熔體與氧化鋁基底的潤濕性。當(dāng)沉積的鎳膜厚度從100nm逐漸增加到1000nm,平衡接觸角顯著降低,鋪展速率逐漸提升。實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象與鍍...

【文章頁數(shù)】：60 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

圖3.1鋁熔體與純氧化鋁基片的潤濕過程圖像

要研究了鋁熔體與鍍鉻氧化鋁、純氧化鋁和純鉻的潤濕行為，鍍200nm之間，潤濕溫度為700℃和800℃，通過對比鋁熔體與上，以期研究鍍鉻層對鋁熔體在氧化鋁上的鋪展速率、平衡潤濕角作用機(jī)理。觸角變化特征接觸角變化過程體在純氧化鋁基片上的鋪展顯示的是鋁熔體與純氧化鋁基片的潤濕行為....

圖3.2700℃下鋁熔體與650nm鍍鉻氧化鋁基片的潤濕過程圖像

沈陽航空航天大學(xué)碩士學(xué)位論文像，圖3.2(b)是潤濕行為實(shí)驗(yàn)進(jìn)行到2min時(shí)的過程圖像，圖3到10min時(shí)的過程圖像，圖3.2(d)是鋪展過程結(jié)束時(shí)的圖像態(tài)一直保持到潤濕實(shí)驗(yàn)時(shí)間結(jié)束。由圖3.2可知，鋁熔體在6的潤濕接觸角有一定變化，最終接觸角約為42°，最....

圖3.3700℃下鋁熔體與純鉻基片的潤濕過程圖像

圖3.3700℃下鋁熔體與純鉻基片的潤濕過程圖像(a)0s(b)2min(c)10min(d)47min下鋁熔體在650nm鍍鉻氧化鋁基片上的鋪展示的是鋁熔體與650nm鍍鉻氧化鋁基片上的潤濕行為實(shí)驗(yàn)的800℃溫度下進(jìn)行，整個(gè)實(shí)驗(yàn)保溫60min。其中圖3.4(....

圖3.4800℃下鋁熔體與650nm鍍鉻氧化鋁基片的潤濕過程圖像

圖3.3700℃下鋁熔體與純鉻基片的潤濕過程圖像(a)0s(b)2min(c)10min(d)47min下鋁熔體在650nm鍍鉻氧化鋁基片上的鋪展示的是鋁熔體與650nm鍍鉻氧化鋁基片上的潤濕行為實(shí)驗(yàn)的800℃溫度下進(jìn)行，整個(gè)實(shí)驗(yàn)保溫60min。其中圖3.4(....

本文編號：3906643