采用陰極電弧離子鍍技術(shù)沉積了厚度為16μm左右的CrN膜層,然后在其上以陰極電弧+磁控濺射+陽極層離子源復合技術(shù)沉積了厚度約3μm的類金剛石(DLC)膜層,分別用掃描電鏡、顯微硬度計、劃痕儀、摩擦磨損試驗儀分析和測試了CrN、DLC、CrN/DLC等3種膜層的表面和截面形貌,厚度,顯微硬度,結(jié)合力以及耐磨損性能。結(jié)果表明,采用上述方法制備的CrN/DLC復合膜具有良好的綜合性能,膜層界面明晰、結(jié)構(gòu)致密,膜基結(jié)合力大于60 N,顯微硬度達到2200²600 HV,磨損率為1.8×10^-16m³/(N·m),耐磨損性能優(yōu)于CrN和DLC單層膜。

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【文章目錄】：
1 實驗
    1.1 樣品制備
    1.2 測試方法
2 結(jié)果與討論
    2.1 表面粗糙度
    2.2 表面形貌和截面形貌
    2.3 顯微硬度與結(jié)合強度
    2.4 摩擦磨損性能
3 結(jié)論



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