鎂合金由于具有優(yōu)異的性能而被廣泛應(yīng)用于航空、航天和機(jī)械等領(lǐng)域。然而,鎂合金電化學(xué)活性高,耐蝕性差,嚴(yán)重限制了其在工程中的應(yīng)用。因此,采取相應(yīng)的表面處理技術(shù)來(lái)提高鎂合金的耐蝕性是非常必要的。微弧氧化是近年來(lái)常用的鎂合金表面處理技術(shù)之一,通過(guò)該技術(shù)可以在鎂合金表面原位生長(zhǎng)一層陶瓷膜層,從而提高鎂合金的耐蝕性。本文采用AZ31B鎂合金為基體,通過(guò)大量前期探索實(shí)驗(yàn)和正交試驗(yàn),研究了硅酸鈉濃度、氫氧化鈉濃度、電流密度、氧化時(shí)間、焦磷酸鈉濃度對(duì)AZ31B鎂合金微弧氧化膜層外觀、厚度和硬度的影響,并確定了 AZ31B鎂合金微弧氧化處理的最佳工藝參數(shù)。在優(yōu)化工藝參數(shù)的基礎(chǔ)上,通過(guò)在微弧氧化電解液中添加Sb2O3微粒,結(jié)合SEM、EDS、XRD和XPS等檢測(cè)分析方法研究了不同Sb2O3濃度對(duì)AZ31B鎂合金微弧氧化膜層生長(zhǎng)過(guò)程、形貌結(jié)構(gòu)、膜層成分、膜層性能的影響,并探討了Sb2O3微弧氧化摻雜機(jī)理。正交試驗(yàn)研究表明溫度不超過(guò)30℃,占空比為20%,頻率為100Hz情況下,優(yōu)化的工藝參數(shù)為:Na2SiO3 10.5g/L,NaOH 3g/L,氧化時(shí)間60min,電流密度5A/dm2,Na4P2O7 2g/... 

【文章頁(yè)數(shù)】：63 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
abstract
第1章 緒論
    1.1 引言
    1.2 鎂合金的腐蝕
        1.2.1 鎂合金的腐蝕機(jī)理
        1.2.2 鎂合金的腐蝕類型
        1.2.3 鎂合金耐蝕性的影響因素
    1.3 鎂合金表面處理技術(shù)
        1.3.1 電化學(xué)鍍
        1.3.2 化學(xué)轉(zhuǎn)化
        1.3.3 陽(yáng)極氧化
        1.3.4 氣相沉積
    1.4 微弧氧化技術(shù)
        1.4.1 微弧氧化技術(shù)原理及特點(diǎn)
        1.4.2 微弧氧化技術(shù)研究現(xiàn)狀
        1.4.3 微弧氧化影響因素
    1.5 鎂合金微弧氧化
    1.6 本課題研究?jī)?nèi)容
第2章 實(shí)驗(yàn)條件和實(shí)驗(yàn)方法
    2.1 引言
    2.2 實(shí)驗(yàn)設(shè)備
    2.3 實(shí)驗(yàn)材料及試劑
    2.4 微弧氧化膜層制備及檢測(cè)方法
        2.4.1 試樣預(yù)處理
        2.4.2 微弧氧化膜層制備
        2.4.3 微弧氧化膜層后處理
        2.4.4 微弧氧化膜層檢測(cè)方法
第3章 微弧氧化工藝研究結(jié)果及分析
    3.1 引言
    3.2 正交實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)
        3.2.1 正交實(shí)驗(yàn)因素范圍設(shè)定
        3.2.2 正交實(shí)驗(yàn)表的設(shè)定
    3.3 正交試驗(yàn)結(jié)果
    3.4 膜層外觀分析
        3.4.1 極差分析
        3.4.2 方差分析
    3.5 膜層厚度分析
        3.5.1 極差分析
        3.5.2 方差分析
    3.6 膜層硬度分析
        3.6.1 極差分析
        3.6.2 方差分析
    3.7 最佳工藝確定及驗(yàn)證
第4章 Sb_2O_3摻雜改性對(duì)微弧氧化膜層特性影響
    4.1 前言
    4.2 Sb_2O_3濃度對(duì)膜層生長(zhǎng)速度的影響
    4.3 Sb_2O_3摻雜改性對(duì)微弧氧化膜層形貌和成分的影響
        4.3.1 Sb_2O_3濃度對(duì)微弧氧化膜層表面形貌及元素分布的影響
        4.3.2 Sb_2O_3濃度對(duì)微弧氧化膜層截形貌的影響
        4.3.3 Sb_2O_3濃度對(duì)微弧氧化膜層成分的影響
    4.4 Sb_2O_3摻雜改性對(duì)微弧氧化膜層性能影響
        4.4.1 Sb_2O_3濃度對(duì)膜層厚度的影響
        4.4.2 Sb_2O_3濃度對(duì)膜層硬度的影響
        4.4.3 Sb_2O_3濃度對(duì)膜層結(jié)合力的影響
        4.4.4 Sb_2O_3濃度對(duì)膜層抗熱震性能的影響
        4.4.5 Sb_2O_3濃度對(duì)微弧氧化膜層耐蝕性能的影響
    4.5 Sb_2O_3摻雜微弧氧化膜層生長(zhǎng)模型
    4.6 小結(jié)
第5章 結(jié)論及展望
    5.1 結(jié)論
    5.2 展望
參考文獻(xiàn)
致謝
攻讀碩士期間發(fā)表的論文及科研成果



本文編號(hào)：3670906