發(fā)布時(shí)間：2022-02-09 07:50

　　鎂合金以輕質(zhì)高強(qiáng),易加工,抗電磁干擾強(qiáng),抗震性好等優(yōu)點(diǎn)在3C電子、交通運(yùn)輸?shù)裙I(yè)領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景,但鎂合金自身較差的耐蝕性限制了其大規(guī)模使用。近年來(lái),微弧氧化以工藝簡(jiǎn)單、電解液環(huán)保、膜層結(jié)合力優(yōu)良以及可一次著色等優(yōu)點(diǎn)成為常用的鎂合金表面防護(hù)與裝飾方式。但現(xiàn)有的工藝往往需要較大電流密度或較長(zhǎng)處理時(shí)間。此外,微弧氧化過程中電解液溫度的上升對(duì)膜層的影響尚不清楚。因此,有必要對(duì)微弧氧化工藝參數(shù)及電解液溫度的影響進(jìn)行研究。本研究使用雙極性脈沖電源,在恒流模式下,通過正交試驗(yàn)+單因素實(shí)驗(yàn)得到電流密度為3A/dm²,處理時(shí)間為8min的微弧氧化工藝。隨電解液溫度上升,階段1、4持續(xù)時(shí)間縮短,階段3持續(xù)時(shí)間增加,階段4終止電壓逐漸下降。隨電解液溫度上升,膜層R_VO(R_VO=V₂O₃含量/V₂O₅含量)由3.62下降至0.28,膜層黑度值由24.8上升至29.03,膜層黑度下降。溫度上升,膜層內(nèi)部致密性下降,膜層表面粗糙度先下降后上升,膜層結(jié)合力由... 

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【學(xué)位級(jí)別】：碩士

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Na2SiO3含量對(duì)膜層黑度色差的影響a)，Na2SiO3含量對(duì)膜層結(jié)合力及粗糙度的影響b)

a) b)圖 3-1 Na2SiO3含量對(duì)膜層黑度色差的影響 a)，Na2SiO3含量對(duì)膜層結(jié)合力及粗糙度的影響 b)Fig. 3-1 The influence of Na2SiO3content on the MAO coating's blackness and chromatic aberration a), theinfluence of Na2SiO3content on film adhesion and roughness b)3.4.2 NH4VO3單因素實(shí)驗(yàn)圖 3-2 a 為 NH4VO3含量對(duì)膜層黑度色差的影響規(guī)律，可以看出，隨著 NH4VO3含量的增加，膜層黑度值趨于上升，黑度下降，原因可能是過多的VO3-將V2O3氧化為V2O5。NH4VO3含量為 15g/L 時(shí)，膜層黑度值最小，NH4VO3含量為 19g/L 時(shí)，膜層色差最小。圖 3-2 b 為 NH4VO3含量對(duì)膜層結(jié)合力及粗糙度的影響規(guī)律，可以看出，隨著 NH4VO3含量的上升，膜層結(jié)合力先上升后下降。NH4VO3含量為 17g/L 時(shí)，膜層粗糙度最小，NH4VO3含量為 19g/L 時(shí)，膜層結(jié)合力最高。綜合考慮，NH4VO3含量為 19g/L 時(shí)，膜層的綜合性能最好。

第三章 電解液組成及電參數(shù)配置的確定3.4.3 EDTA 單因素實(shí)驗(yàn)圖 3-3 a 為 EDTA 含量對(duì)膜層黑度色差的影響規(guī)律，可以看出，膜層黑度先上升后下降，膜層色差先下降后上升。EDTA 含量為 6g/L 時(shí)，膜層色差最小，EDTA 含量為8g/L 時(shí)，膜層黑度值最低。圖 3-3 b 為 EDTA 含量對(duì)膜層結(jié)合力及粗糙度的影響規(guī)律，可以看出，隨著 EDTA 含量的上升，膜層粗糙度持續(xù)降低，膜層的結(jié)合力不斷下降。EDTA 含量為 6g/L 時(shí)，膜層的結(jié)合力最高，EDTA 含量為 8g/L 時(shí)，膜層的粗糙度最低。綜合考慮，當(dāng) EDTA 含量為 6g/L 時(shí)，膜層的綜合性能最好。

【參考文獻(xiàn)】：
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