采用磁控濺射技術(shù)在炮鋼基材表面制備不同Ti靶電流的TiAlN膜層。利用激光共聚焦、X射線衍射儀、掃描電鏡、納米壓痕儀、多功能材料表面性能測(cè)試儀、蔡司顯微鏡等檢測(cè)方法,研究不同Al/Ti對(duì)TiAlN膜層的粗糙度,相結(jié)構(gòu)、納米硬度、摩擦性能的影響。結(jié)果表明:磁控濺射沉積TiAlN膜層光滑致密,無(wú)大液滴,以TiN（200）、（220）為主相擇優(yōu)生長(zhǎng)。Al/Ti比值為1.32時(shí),薄膜硬度處于峰值區(qū),納米硬度最高可達(dá)19GPa。Al/Ti比值為0.87時(shí)硬度略微降低,但表面粗糙度最小為0.029μm,摩擦系數(shù)保持穩(wěn)定最低為0.4723左右。Al/Ti比值為0.87時(shí),表現(xiàn)出較好的抗磨損性能。 

【文章來(lái)源】：科學(xué)技術(shù)與工程. 2016,16(31)北大核心

【文章頁(yè)數(shù)】：6 頁(yè)

【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)材料與方法
    1.1 試樣的制備
    1.2 Ti Al N膜層的制備
    1.3 Ti Al N膜層的表征方法
2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論
    2.1 Ti Al N膜層的成分
    2.2 膜層的宏觀形貌及表面粗糙度分析
    2.3 膜層的XRD物相分析
    2.4 膜層的納米硬度與彈性模量分析
    2.5 膜層的室溫摩擦磨損分析
3 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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碩士論文
[1](Ti，Al)N薄膜力學(xué)性能及微觀組織結(jié)構(gòu)的研究[D]. 陳蓓蓓.上海交通大學(xué) 2007



本文編號(hào)：3496580