鎂合金性能優(yōu)越,因具有機械性能好、密度低、導電性能良好等優(yōu)點而廣泛應用在汽車、電子、航空航天等領域。鎂合金化學性質(zhì)活潑,致使其耐蝕性較差。本文利用化學和電化學的方法在鎂合金表面制備轉(zhuǎn)化膜,采用金相顯微鏡、掃描電子顯微鏡（SEM）、電化學工作站、X射線衍射儀（XRD）、點滴實驗等手段對其性能進行表征,確定了化學（電化學）轉(zhuǎn)化膜制備的最佳工藝和轉(zhuǎn)化膜的成膜機理。采用化學法制備鎂合金化學轉(zhuǎn)化膜。研究了鉬酸銨、硝酸鈉、硝酸鎳、檸檬酸、pH、溫度、時間等因素對轉(zhuǎn)化膜性能的影響,正交試驗優(yōu)化出鎂合金鉬酸鹽化學轉(zhuǎn)化膜的最佳制備工藝為:鉬酸銨25 g·L^-1、硝酸鈉1.5 g·L^-1、硝酸錳1 g·L^-1、檸檬酸1.5 g·L^-1、轉(zhuǎn)化液pH 5、轉(zhuǎn)化溫度60℃、轉(zhuǎn)化時間25 min。測試結(jié)果顯示鉬酸鹽化學轉(zhuǎn)化膜較鎂合金基體腐蝕電流小一個單位數(shù)量級,腐蝕電位向正方向移動了0.33 V,鉬酸鹽化學轉(zhuǎn)化膜提高了鎂合金的耐蝕性;膜層表面平整,無明顯的突起、凹陷等缺陷,對鎂合金基體起到保護作用,膜層主要由Mg、O、Mo等元... 

【文章來源】：沈陽理工大學遼寧省

【文章頁數(shù)】：98 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

不同鉬酸銨濃度下轉(zhuǎn)化膜極化曲線

圖 3.2 腐蝕電流和腐蝕電位變化圖Fig. 3.2 The variation diagram of corrosion current and corrosion potential酸銨濃度較小時，溶液中存在的鉬酸根離子較少，鎂合金基體得形成的轉(zhuǎn)化膜不能完全覆蓋基體，獲得的轉(zhuǎn)化膜耐蝕性較差大時，溶液中高濃度的離子加速了基體的腐蝕，同時也使得化

3.0 58 56 55 56.33.1.2.2 電化學測試圖 3.3 為不同硝酸鈉濃度下轉(zhuǎn)化膜極化曲線圖，表 3.4 為轉(zhuǎn)化膜對應腐蝕電流和腐蝕電位，圖 3.4 為轉(zhuǎn)化膜腐蝕電流和腐蝕電位變化圖。從圖 3.3 可以看出，隨硝酸鈉濃度的增大轉(zhuǎn)化膜腐蝕電位逐漸增大然后再逐漸變小，硝酸鈉濃度在1.5-2.5 g·L-1范圍內(nèi)時，膜層腐蝕電位正移較明顯，說明膜層耐蝕性較好。圖 3.3 不同硝酸鈉濃度下轉(zhuǎn)化膜極化曲線Fig. 3.3 The polarization curves of coatings prepared at different concentration of sodium nitrate從表 3.4 和圖 3.4 可看出，隨硝酸鈉濃度的增大腐蝕電流先逐漸減小再逐漸增大，當硝酸鈉濃度在 1.5-2.5 g·L-1范圍內(nèi)

【參考文獻】：
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碩士論文
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本文編號：3369267