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Ni-W-P合金鍍層的制備工藝及抗高溫氧化性的研究

發(fā)布時(shí)間:2017-04-25 01:15

  本文關(guān)鍵詞:Ni-W-P合金鍍層的制備工藝及抗高溫氧化性的研究,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。


【摘要】:Ni-W-P合金由于具有優(yōu)良的熱穩(wěn)定性,優(yōu)異的耐蝕性和耐磨性,被廣泛用于軸承、軋輥、活塞環(huán)、熱煅模、鐘表機(jī)芯、石油容器和內(nèi)燃機(jī)氣缸等方面。Ni-W合金的沉積屬于誘導(dǎo)共沉積,電鍍液中金屬組分和工藝條件對(duì)沉積層組成的影響較為復(fù)雜。此外,Ni-W-P合金鍍層中各元素的含量對(duì)鍍層的微觀結(jié)構(gòu)和性能也具有至關(guān)重要的影響。本文以Watts液為基礎(chǔ),采用不同的工藝參數(shù)和鍍液組成制備出了Ni-W-P系列合金鍍層。利用SEM、XRD、EPMA等方法來(lái)探究工藝條件對(duì)Ni-W-P鍍層的微觀形貌、組織成分、沉積速率等方面的影響。使用增重法測(cè)定鍍層的抗高溫氧化性,從而確定鍍液最佳組成。在此條件下,通過(guò)在鍍液中添加Al_2O_3顆粒制得了Ni-W-P-Al_2O_3復(fù)合鍍層,并研究了Al_2O_3含量對(duì)其抗高溫氧化性、鍍層結(jié)合強(qiáng)度的影響。結(jié)果如下:電流密度、pH值、鍍液溫度對(duì)Ni-W-P鍍層沉積速率、形貌的影響尤為顯著。在pH值為6、電流密度12A.dm-2、鍍液溫度60℃、施鍍時(shí)間20min的工藝條件下,能夠得到表面質(zhì)量較好的Ni-W-P合金鍍層。此外,鍍液中Na_2WO_4·2H_2O、H_3PO_3的濃度對(duì)鍍層中各元素含量影響較大:當(dāng)Na_2WO_4·2H_2O濃度達(dá)到80g/L時(shí),鍍層含W量較高且晶粒尺寸最小;當(dāng)H_3PO_3的濃度增加到20g/L時(shí),鍍層中P的含量上升到3.9 at.%且表面質(zhì)量較好;在沉積過(guò)程中,W元素與P元素會(huì)競(jìng)爭(zhēng)析出,從而在鍍層中的含量會(huì)互相影響。當(dāng)鍍層中W含量為9.1 at.%,P含量為3.9 at.%時(shí),鍍層的抗高溫氧化性最好。添加一定濃度的Al_2O_3顆粒,可以有效細(xì)化Ni-W-P合金鍍層的胞狀組織,并且其納米Al_2O_3顆粒的細(xì)化效果明顯優(yōu)于微米Al_2O_3顆粒。納米Al_2O_3的加入能夠明顯提高鍍層的抗高溫氧化性,且當(dāng)Al_2O_3顆粒濃度達(dá)到15 g/L時(shí),胞狀組織的平均尺度達(dá)到最小值且抗高溫氧化性最好。劃格法結(jié)果表明Ni-W-P-Al_2O_3復(fù)合鍍層的附著力達(dá)到了一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)。因此,實(shí)驗(yàn)得出了制備Ni-W-P-Al_2O_3復(fù)合鍍層的最佳條件,主要工藝參數(shù)為:pH為6、電流密度12A·dm-2、鍍液溫度60℃、施鍍時(shí)間為20min、NiSO4·6H2O 80g/L、H_3PO_320g/L、Na_2WO_4·2H_2O 80g/L、Na3C6H5O7·H2O 70 g/L、納米Al_2O_3顆粒15 g/L。
【關(guān)鍵詞】:Ni-W-P合金 工藝參數(shù) 微觀組織 抗高溫氧化性 Ni-W-P-Al_2O_3復(fù)合鍍層
【學(xué)位授予單位】:蘭州理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號(hào)】:TG174.4
【目錄】:
  • 摘要8-9
  • Abstract9-13
  • 第1章 緒論13-27
  • 1.1 引言13
  • 1.2 鎳沉積國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀13-15
  • 1.2.1 電鍍鎳概述13-14
  • 1.2.2 電鍍鎳研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)14-15
  • 1.3 電沉積鎳基合金的研究意義與現(xiàn)狀15-18
  • 1.3.1 電沉積鎳基合金概述15-16
  • 1.3.2 電沉積鎳基合金的工藝條件16-17
  • 1.3.3 電沉積鎳基合金的結(jié)構(gòu)17
  • 1.3.4 電沉積鎳基合金的沉積機(jī)理17-18
  • 1.4 鎳鎢合金的應(yīng)用與研究現(xiàn)狀18-20
  • 1.4.1 鎳鎢合金的應(yīng)用18-19
  • 1.4.2 鎳鎢合金的研究現(xiàn)狀19
  • 1.4.3 鎳鎢復(fù)合鍍層的制備研究19-20
  • 1.5 鎳鎢合金的沉積機(jī)理20-22
  • 1.5.1 金屬鎳離子沉積20-21
  • 1.5.2 金屬鎢的沉積21-22
  • 1.6 鍍液組成及工藝參數(shù)對(duì)鍍層的影響22-25
  • 1.6.1 鍍液組成22-24
  • 1.6.2 工藝條件24-25
  • 1.7 課題研究意義與內(nèi)容25-27
  • 1.7.1 課題來(lái)源25
  • 1.7.2 課題的研究意義25-26
  • 1.7.3 課題的研究?jī)?nèi)容26-27
  • 第2章 實(shí)驗(yàn)方法27-32
  • 2.1 實(shí)驗(yàn)試劑及儀器27
  • 2.1.1 實(shí)驗(yàn)試劑27
  • 2.1.2 實(shí)驗(yàn)儀器27
  • 2.2 試樣制備27-29
  • 2.2.1 鍍液的配制27-28
  • 2.2.2 電沉積實(shí)驗(yàn)28-29
  • 2.3 沉積層檢測(cè)29-32
  • 2.3.1 鍍層成分分析29
  • 2.3.2 鍍層組織結(jié)構(gòu)和表面形貌檢測(cè)29
  • 2.3.3 沉積速率測(cè)定29-30
  • 2.3.4 鍍層高溫氧化性測(cè)定30
  • 2.3.5 沉積層晶粒尺寸測(cè)定30
  • 2.3.6 孔隙率的測(cè)定30-31
  • 2.3.7 鍍層結(jié)合強(qiáng)度的測(cè)定31-32
  • 第3章 Ni-W-P合金鍍層的制備工藝32-40
  • 3.1 電流密度對(duì)合金鍍層的影響32-34
  • 3.1.1 電流密度對(duì)合金鍍層微觀形貌的影響32-33
  • 3.1.2 電流密度對(duì)合金鍍層沉積速度的影響33-34
  • 3.2 鍍液的pH值對(duì)鍍層的影響34-36
  • 3.2.1 pH值對(duì)鍍層顯微形貌的影響34-35
  • 3.2.2 pH值對(duì)鍍層沉積速度的影響35-36
  • 3.3 施鍍時(shí)間對(duì)合金鍍層的影響36-37
  • 3.3.1 施鍍時(shí)間對(duì)合金鍍層顯微形貌的影響36
  • 3.3.2 施鍍時(shí)間對(duì)鍍層沉積速度的影響36-37
  • 3.4 鍍液溫度對(duì)鍍層的影響37-38
  • 3.4.1 溫度對(duì)鍍層形貌的影響37-38
  • 3.4.2 溫度對(duì)鍍層沉積速度的影響38
  • 3.5 本章小節(jié)38-40
  • 第4章 Ni-W-P鍍層的制備與高溫氧化性測(cè)試40-49
  • 4.1 Ni-W-P合金鍍層的制備40-41
  • 4.1.1 Ni-W-P合金鍍液組分與工藝條件40
  • 4.1.2 Ni-W-P合金鍍層的制備40-41
  • 4.2 Na_2WO_4·2H_2O濃度對(duì)Ni-W-P鍍層的影響41-42
  • 4.2.1 Na_2WO_4·2H_2O濃度對(duì)Ni-W-P鍍層成分的影響41
  • 4.2.2 Na_2WO_4·2H_2O濃度對(duì)Ni-W-P鍍層顯微形貌的影響41-42
  • 4.3 鍍液H_3PO_3含量對(duì)Ni-W-P鍍層影響42-44
  • 4.3.1 H_3PO_3含量對(duì)Ni-W-P鍍層成分的影響42-43
  • 4.3.2 H_3PO_3含量對(duì)Ni-W-P鍍層顯微形貌的影響43-44
  • 4.4 Ni-W-P 合金鍍層的元素分布44-45
  • 4.5 Ni-W-P合金鍍層的抗高溫氧化性45-48
  • 4.5.1 Ni-W-P合金鍍層的氧化增重45-46
  • 4.5.2 鍍層高溫處理后的宏觀形貌46-47
  • 4.5.3 Ni-W-P合金鍍層的微觀結(jié)構(gòu)47-48
  • 4.6 本章小節(jié)48-49
  • 第5章 Ni-W-P-Al_2O_3復(fù)合鍍層的制備與性能研究49-57
  • 5.1 Ni-W-P-Al_2O_3復(fù)合鍍層的制備49-50
  • 5.1.1 鍍液組成與工藝條件49
  • 5.1.2 Ni-W-P-Al_2O_3復(fù)合鍍層的制備49-50
  • 5.2 Al_2O_3含量對(duì)Ni-W-P-Al_2O_3復(fù)合鍍層成分的影響50
  • 5.3 Al_2O_3顆粒對(duì)Ni-W-P-Al_2O_3復(fù)合鍍層形貌的影響50-54
  • 5.3.1 不同粒徑的Al_2O_3顆粒對(duì)鍍層形貌的影響50-51
  • 5.3.2 納米Al_2O_3顆粒含量對(duì)鍍層形貌的影響51-52
  • 5.3.3 納米Al_2O_3顆粒在鍍層中的分布52-54
  • 5.4 納米Al_2O_3顆粒對(duì)鍍層高溫氧化性的影響54-55
  • 5.5 鍍層結(jié)合力的測(cè)試55
  • 5.6 本章小節(jié)55-57
  • 結(jié)論57-58
  • 參考文獻(xiàn)58-63
  • 致謝63-64
  • 附錄A 攻讀學(xué)位期間所發(fā)表的學(xué)術(shù)論文目錄64

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本文編號(hào):325322

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