發(fā)布時(shí)間：2017-03-25 22:02

  本文關(guān)鍵詞：超薄304不銹鋼片Roll-to-Roll化學(xué)機(jī)械拋光液研究，，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：隨著時(shí)代的進(jìn)步、科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,柔性顯示器(FOLED)因其更輕薄、更耐沖擊和可彎曲性等優(yōu)越性越來(lái)越受到重視,柔性顯示基板作為柔性顯示器研發(fā)的基礎(chǔ),也同樣備受關(guān)注。相比玻璃、聚合物、石墨烯材料,金屬材料因其低熱膨脹系數(shù)、水氧隔離性能優(yōu)越、原材料獲取方便且價(jià)格低廉被認(rèn)為是柔性顯示襯底材料的首選。304不銹鋼因其超薄、質(zhì)量輕、耐用、儲(chǔ)存量大、設(shè)計(jì)自由、可撓曲、可收卷和耐沖擊等性能或?qū)⒊蔀槿嵝燥@示器的主要襯底材料。為了實(shí)現(xiàn)柔性顯示襯底超薄、大尺寸,并與后續(xù)器件制程實(shí)現(xiàn)無(wú)縫對(duì)接,最好的方法是采用Roll-to-Roll連續(xù)超精密加工,化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)被認(rèn)為是能兼顧表面粗糙度和表面平整度要求的最好的工藝方法。研究主要在拋光液配方、拋光化學(xué)作用機(jī)理和拋光工藝參數(shù)三個(gè)方面:研究配制初始拋光液,通過(guò)單因素試驗(yàn)分析方法,了解拋光液中磨料、氧化劑、pH調(diào)節(jié)劑和分散劑種類、濃度變化對(duì)拋光效果的影響,再通過(guò)正交試驗(yàn)和SAS方差分析得到雙氧水-草酸型拋光液:2.8wt%w3.5白剛玉、1.9wt%六偏磷酸鈉、1.5wt%草酸、5.6wt%雙氧水、0.04 wt%十六烷基硫酸鈉;三氯化鐵-草酸型拋光液3.8wt%w0.5白剛玉、1.8wt%丙三醇、1.4wt%草酸、5.4wt%三氯化鐵、0.2 wt%壬基酚氧乙烯醚。并制定了粗拋、半精拋方案�？紤]兩種單一氧化劑拋光液的優(yōu)勢(shì)和存在的問(wèn)題,將兩種氧化劑混合并對(duì)304不銹鋼進(jìn)行拋光效果測(cè)試,可以得出通過(guò)調(diào)節(jié)雙氧水和三氯化鐵濃度來(lái)調(diào)整拋光速率以及表面質(zhì)量。利用正交試驗(yàn)和方差分析得到雙氧水-三氯化鐵型拋光液配方:2.8wt%w0.5白剛玉、1.8wt%丙三醇、5.6wt%三氯化鐵、1.8wt%草酸、0.6wt%壬基酚氧乙烯醚、3.6wt%雙氧水。并制定了粗拋、半精拋、精拋方案。研究拋光液部分主要組分拋光中起到的化學(xué)作用機(jī)理進(jìn)行試驗(yàn)分析。證明了拋光過(guò)程中2Fe3++Fe→3Fe2+反應(yīng)和Fenton反應(yīng)2Fe2++H2O2+2H+→2Fe3++2H2O的存在,且反應(yīng)中形成的鐵離子能夠發(fā)生水合作用形成絡(luò)合物[Fe(H2O)6]3+,它在不斷的與水反應(yīng)形成更復(fù)雜的鐵的絡(luò)合物質(zhì),這些絡(luò)合物可以附著在304不銹鋼表面,填充凹陷,阻止低洼處進(jìn)一步腐蝕,提高表面質(zhì)量。運(yùn)用XRD技術(shù)證明雙氧水-三氯化鐵型拋光液拋光304不銹鋼不會(huì)改變其原本基體的物相,證明了使用該拋光液拋光后的304不銹鋼不會(huì)失去其應(yīng)有的性能。研究了拋光工藝參數(shù)對(duì)304不銹鋼拋光速率及表面質(zhì)量的影響,制定出合適的拋光工藝參數(shù)。提高拋光盤轉(zhuǎn)速,材料去除率上升,但轉(zhuǎn)速過(guò)高表面質(zhì)量下降。增大拋光壓力,材料去除率上升,表面粗糙度隨壓力變化有起伏。加大拋光液流量,材料去除率呈下降趨勢(shì),表面粗糙度先減后增。升高拋光溫度,材料去除率持續(xù)下降,表面粗糙也呈下降趨勢(shì)。拋光時(shí)間超過(guò)15分鐘,隨著拋光時(shí)間增加,材料去除率變化不明顯,但表面粗糙度有明顯下降。
【關(guān)鍵詞】：化學(xué)機(jī)械拋光 304不銹鋼 拋光液 材料去除率 表面粗糙度
【學(xué)位授予單位】：河南科技學(xué)院
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2016
【分類號(hào)】：TG175.1;TG580.692
【目錄】：

• 摘要4-6
• Abstract6-12
• 第一章 緒論12-26
• 1.1 論文的選題背景12-15
• 1.1.1 柔性顯示技術(shù)發(fā)展?fàn)顩r12-13
• 1.1.2 柔性顯示器襯底材料13-15
• 1.2 不銹鋼表面超精密加工技術(shù)國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀15-17
• 1.2.1 不銹鋼機(jī)械拋光研究15-16
• 1.2.2 不銹鋼化學(xué)拋光研究16
• 1.2.3 不銹鋼電化學(xué)拋光研究16
• 1.2.4 不銹鋼電化學(xué)機(jī)械拋光研究16-17
• 1.2.5 不銹鋼化學(xué)機(jī)械拋光研究17
• 1.3 化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)17-22
• 1.3.1 化學(xué)機(jī)械拋光概述17-18
• 1.3.2 拋光機(jī)主要參數(shù)對(duì)CMP的影響18-19
• 1.3.3 拋光墊對(duì)CMP的影響19-20
• 1.3.4 拋光液各成分對(duì)CMP的影響20-22
• 1.4 不銹鋼特性22-23
• 1.5 課題來(lái)源及主要研究?jī)?nèi)容23-24
• 1.5.1 課題來(lái)源23
• 1.5.2 主要研究?jī)?nèi)容23-24
• 1.6 本章小結(jié)24-26
• 第二章 試驗(yàn)條件與準(zhǔn)備26-30
• 2.1 研究環(huán)境條件26
• 2.2 拋光試驗(yàn)臺(tái)26-27
• 2.3 試驗(yàn)樣品27
• 2.4 檢測(cè)儀器及設(shè)備27-28
• 2.5 本章小結(jié)28-30
• 第三章 拋光液成分的選擇30-50
• 3.1 磨料的選擇30-34
• 3.1.1 試驗(yàn)條件及安排31
• 3.1.2 試驗(yàn)結(jié)果與分析31-34
• 3.2 氧化劑的選擇34-39
• 3.2.1 試驗(yàn)條件及安排34-35
• 3.2.2 試驗(yàn)結(jié)果與分析35-39
• 3.3 pH調(diào)節(jié)劑的選擇39-42
• 3.3.1 試驗(yàn)條件及安排39-40
• 3.3.2 試驗(yàn)結(jié)果與分析40-42
• 3.4 分散劑的選擇42-45
• 3.4.1 試驗(yàn)條件及安排42-43
• 3.4.2 試驗(yàn)結(jié)果與分析43-45
• 3.5 活性劑的選擇45-49
• 3.5.1 試驗(yàn)條件及安排45-46
• 3.5.2 試驗(yàn)結(jié)果與分析46-49
• 3.6 本章小結(jié)49-50
• 第四章 拋光液設(shè)計(jì)50-74
• 4.1 雙氧水-草酸型拋光液的配制50-57
• 4.1.1 試驗(yàn)方案選擇50-51
• 4.1.2 試驗(yàn)條件及安排51
• 4.1.3 正交試驗(yàn)表51-53
• 4.1.4 試驗(yàn)結(jié)果分析53-56
• 4.1.5 拋光液拋光方案56-57
• 4.2 三氯化鐵-草酸型拋光液的配制57-64
• 4.2.1 試驗(yàn)方案選擇57-58
• 4.2.2 試驗(yàn)條件及安排58
• 4.2.3 正交試驗(yàn)表58-60
• 4.2.4 試驗(yàn)結(jié)果分析60-63
• 4.2.5 拋光液拋光方案63-64
• 4.3 雙氧水-三氯化鐵型拋光液的配制64-73
• 4.3.1 雙氧水與三氯化鐵配比研究64-66
• 4.3.2 試驗(yàn)方案選擇66
• 4.3.3 試驗(yàn)條件及安排66-67
• 4.3.4 正交試驗(yàn)表67-68
• 4.3.5 試驗(yàn)結(jié)果分析68-72
• 4.3.6 拋光液最優(yōu)配比驗(yàn)證與拋光方案72-73
• 4.4 本章小結(jié)73-74
• 第五章 拋光液拋光化學(xué)機(jī)理74-90
• 5.1 拋光試驗(yàn)設(shè)計(jì)74
• 5.2 酸性環(huán)境中Cl-對(duì)304不銹鋼的腐蝕74-77
• 5.3 酸性環(huán)境中雙氧水對(duì)304不銹鋼的作用77
• 5.4 三氯化鐵對(duì)304不銹鋼的蝕刻77-81
• 5.4.1 不同濃度三氯化鐵溶液氧化還原電位隨時(shí)間的變化77-79
• 5.4.2 蝕刻速率與三氯化鐵蝕刻液濃度的關(guān)系79
• 5.4.3 鄰菲羅啉分光光度法測(cè)定S2和S4的Fe~(2+)含量79-81
• 5.5 雙氧水與三氯化鐵交互作用81-86
• 5.5.1 類Fenton反應(yīng)對(duì)304不銹鋼拋光的作用81-84
• 5.5.2 利用ICP測(cè)定拋光廢液中Fe、Cr、Ni元素含量84-86
• 5.6 利用XRD對(duì)拋光后不銹鋼片進(jìn)行物相分析86-87
• 5.7 本章小結(jié)87-90
• 第六章 拋光工藝參數(shù)研究90-99
• 6.1 試驗(yàn)方案選擇90
• 6.2 試驗(yàn)條件及安排90
• 6.3 正交試驗(yàn)表90-92
• 6.4 試驗(yàn)結(jié)果分析與驗(yàn)證92-98
• 6.5 本章小結(jié)98-99
• 第七章 結(jié)論與展望99-102
• 7.1 研究結(jié)論99-100
• 7.2 創(chuàng)新點(diǎn)100-101
• 7.3 不足與展望101-102
• 參考文獻(xiàn)102-108
• 致謝108-110
• 攻讀學(xué)位期間取得的研究成果目錄110

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3 ;適于高精度平面化的化學(xué)機(jī)械拋光方法[J];電鍍與涂飾;1999年03期

4 李秀娟,金洙吉,蘇建修,康仁科,郭東明;銅布線化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)分析[J];中國(guó)機(jī)械工程;2005年10期

5 張朝輝,雒建斌,溫詩(shī)鑄;化學(xué)機(jī)械拋光特性的應(yīng)力偶模擬[J];計(jì)算力學(xué)學(xué)報(bào);2005年02期

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9 張振宇;郭東明;康仁科;高航;李巖;;軟脆功能晶體碲鋅鎘化學(xué)機(jī)械拋光[J];機(jī)械工程學(xué)報(bào);2008年12期

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1 雷紅;;化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)及其在電子制造中的應(yīng)用[A];2009年全國(guó)電子電鍍及表面處理學(xué)術(shù)交流會(huì)論文集[C];2009年

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3 牛新環(huán);劉玉嶺;檀柏梅;馬振國(guó);;藍(lán)寶石襯底化學(xué)機(jī)械拋光的機(jī)理研究[A];第六屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集（10）[C];2007年

4 魏昕;熊偉;袁慧;杜宏偉;;化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)理的建模分析[A];全國(guó)生產(chǎn)工程第九屆年會(huì)暨第四屆青年科技工作者學(xué)術(shù)會(huì)議論文集（二）[C];2004年

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7 王永光;白靜;趙永武;顧堅(jiān);;化學(xué)機(jī)械拋光的三體微觀接觸模型[A];2006全國(guó)摩擦學(xué)學(xué)術(shù)會(huì)議論文集（一）[C];2006年

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1 邊燕飛;銅與釕電化學(xué)機(jī)械拋光及其特性的研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2014年

2 王彩玲;300mm硅片化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備及其關(guān)鍵技術(shù)研究[D];大連理工大學(xué);2010年

3 陳曉春;化學(xué)機(jī)械拋光試驗(yàn)及其材料去除機(jī)理的研究[D];江南大學(xué);2014年

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5 宋曉嵐;納米SiO_2漿料中半導(dǎo)體硅片的化學(xué)機(jī)械拋光及其應(yīng)用研究[D];中南大學(xué);2008年

6 曾旭;新型銅互連擴(kuò)散阻擋層釕、釕鉭合金、鉬基薄膜的化學(xué)機(jī)械拋光性能研究[D];復(fù)旦大學(xué);2013年

7 孫禹輝;硅片化學(xué)機(jī)械拋光中材料去除非均勻性研究[D];大連理工大學(xué);2011年

8 蔣建忠;芯片化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程中材料吸附去除機(jī)理的研究[D];江南大學(xué);2009年

9 余劍峰;新型化學(xué)機(jī)械拋光墊和拋光液的研究[D];華南理工大學(xué);2010年

10 徐馳;基于摩擦力在線測(cè)量的化學(xué)機(jī)械拋光終點(diǎn)檢測(cè)技術(shù)研究[D];大連理工大學(xué);2011年

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1 張念民;鈮酸鋰晶體納米壓痕及化學(xué)機(jī)械拋光研究[D];大連理工大學(xué);2015年

2 段波;新型銅互連阻擋層材料Ru的CMP研究[D];河北工業(yè)大學(xué);2015年

3 梁淼;銅互聯(lián)阻擋層新材料鋨的化學(xué)機(jī)械拋光研究[D];安徽工業(yè)大學(xué);2014年

4 程海豐;超薄柔性顯示襯底R(shí)oll-to-Roll化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)研制[D];河南工業(yè)大學(xué);2015年

5 胡坤;超薄304不銹鋼片Roll-to-Roll固結(jié)磨料化學(xué)機(jī)械拋光輥研制[D];河南工業(yè)大學(xué);2015年

6 劉志響;SiC單晶片固結(jié)磨料化學(xué)機(jī)械拋光墊研制[D];河南理工大學(xué);2014年

7 翟科;多振子兆聲壓電換能器及其復(fù)合拋光應(yīng)用研究[D];遼寧工業(yè)大學(xué);2016年

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9 陳佳鵬;超薄304不銹鋼片Roll-to-Roll化學(xué)機(jī)械拋光液研究[D];河南科技學(xué)院;2016年

10 劉金泉;化學(xué)機(jī)械拋光中溫度場(chǎng)的計(jì)算[D];北京交通大學(xué);2007年

  本文關(guān)鍵詞：超薄304不銹鋼片Roll-to-Roll化學(xué)機(jī)械拋光液研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

本文編號(hào)：267820