【摘要】：針對模具自由曲面拋光效率低、磨粒拋光軌跡均勻性差的問題,提出一種變軌跡彈性拋光輪技術(shù)。介紹了彈性拋光輪工具的工作原理與機械結(jié)構(gòu)設(shè)計,以Preston方程結(jié)合赫茲接觸理論為指導(dǎo),對拋光接觸區(qū)內(nèi)的壓力分布、速度分布和磨粒拋光軌跡均勻性進行研究,建立拋光工具的材料去除模型。基于運動學模型,利用Matlab對彈性拋光輪工具在不同轉(zhuǎn)速比下的拋光軌跡進行仿真,并根據(jù)均勻性評價標準對仿真結(jié)果進行對比分析。結(jié)果表明:轉(zhuǎn)速比對磨粒拋光軌跡均勻性有重要影響,在下壓量為0.5 mm、拋光接觸圓直徑為5 mm、公轉(zhuǎn)3周時,轉(zhuǎn)速比為10.645 751的CV值比轉(zhuǎn)速比為10時降低了32%;當轉(zhuǎn)速比趨于無理數(shù)時,拋光軌跡均勻性明顯優(yōu)于整數(shù)轉(zhuǎn)速比,去除函數(shù)更加飽滿。
[Abstract]:Aiming at the problems of low polishing efficiency and poor uniformity of abrasive polishing trajectory, a variable trajectory elastic polishing wheel technology is proposed. This paper introduces the working principle and mechanical structure design of the elastic polishing wheel tool. Under the guidance of Preston equation and Hertz contact theory, the pressure distribution, velocity distribution and abrasive polishing trajectory uniformity in the polishing contact region are studied. Build the material removal model of polishing tools. Based on kinematics model, Matlab was used to simulate the polishing trajectory of elastic polishing wheel tool under different rotational speed ratio, and the simulation results were compared and analyzed according to the evaluation standard of uniformity. The results show that the rotation speed ratio has an important effect on the uniformity of the abrasive polishing trajectory. When the pressure is 0.5 mm, the contact diameter of the polishing contact circle is 5 mm, revolution for 3 weeks, the specific rotational speed ratio of 10.645 mm, to 10.645 CV value is reduced by 32 parts at 10:00. When the rotational speed ratio tends to be irrational, the uniformity of the polishing trajectory is obviously better than the integer rotational speed ratio, and the removal function is more full.
【作者單位】： 西安建筑科技大學機電工程學院;
【基金】：國家自然科學基金(51375361)
【分類號】：TG580.692;TG76

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本文編號：2380519