本文選題：雙親聚合物 + 光交聯(lián)��； 參考：《表面技術(shù)》2017年07期

【摘要】：目的研究電泳沉積條件及光交聯(lián)對(duì)沉積膠束制備涂層形貌、性能的影響。方法首先通過自由基聚合制備可光交聯(lián)雙親性丙烯酸酯共聚物(UPDHES),通過全反射紅外、氫核磁共振(1H-NMR)對(duì)共聚物進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征。然后,將可光交聯(lián)雙親性丙烯酸酯共聚物在選擇性溶劑中自組裝形成膠束納米粒子溶液,利用納米粒度分析儀、透射電子顯微鏡(TEM)對(duì)膠束粒子的粒徑和形貌進(jìn)行表征。最后,以上述膠束溶液為沉積液,控制不同沉積條件,通過電泳沉積在316L不銹鋼表面制備光交聯(lián)涂層,利用掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)研究了電泳沉積條件及光交聯(lián)對(duì)涂層形貌及性能的影響。同時(shí),通過電化學(xué)工作站研究不同條件制備的涂層在1 mol/L HCl中的耐腐蝕性能。結(jié)果當(dāng)沉積電壓為5 V、沉積時(shí)間為3min時(shí),電泳沉積制備的涂層表面光滑,具有較好的致密性和均一性,此時(shí)涂層的自腐蝕電位為-0.36 V,遠(yuǎn)高于不銹鋼(-0.43 V),耐腐蝕性能最優(yōu)。光交聯(lián)后,涂層的附著力由2級(jí)增加至1級(jí),自腐蝕電位增加至-0.34 V,耐腐蝕性進(jìn)一步提高。結(jié)論電泳沉積膠束制備光交聯(lián)涂層過程中,沉積時(shí)間、沉積電壓均存在一最優(yōu)值,此時(shí)制備的涂層結(jié)構(gòu)完整,耐腐蝕性能最好。光交聯(lián)可進(jìn)一步提高涂層的耐腐蝕性能。
[Abstract]:Aim to study the effect of electrophoretic deposition conditions and photocrosslinking on the morphology and properties of the coatings prepared by the deposition of micelles. Methods the photocrosslinked amphiphilic acrylate copolymer was prepared by radical polymerization. The structure of the copolymer was characterized by total reflectance infrared spectroscopy (TIR) and 1H-NMRs. Then the optically crosslinked amphiphilic acrylate copolymer was self-assembled in a selective solvent to form a micellar nanoparticles solution. The particle size and morphology of the micellar particles were characterized by nano-particle size analyzer and transmission electron microscope (TEM). Finally, the photocrosslinked coating was prepared on the surface of 316L stainless steel by electrophoretic deposition with the above micellar solution as the deposition solution and controlling the different deposition conditions. The effects of electrophoretic deposition conditions and photocrosslinking on the morphology and properties of the coatings were investigated by scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM). At the same time, the corrosion resistance of coatings prepared under different conditions in 1 mol/L HCl was studied by electrochemical workstation. Results when the deposition voltage was 5 V and the deposition time was 3min, the surface of the coating prepared by electrophoretic deposition was smooth and had good compactness and uniformity. The self-corrosion potential of the coating was -0.36 V, which was much higher than that of stainless steel (-0.43 V), and the corrosion resistance of the coating was the best. After photocrosslinking, the adhesion of the coating was increased from grade 2 to grade 1, and the corrosion potential increased to -0.34 V, and the corrosion resistance was further improved. Conclusion in the process of preparing photocrosslinked coatings by electrophoretic deposition, there is an optimum value of deposition time and deposition voltage, and the structure of the coatings is complete and the corrosion resistance is the best. Photocrosslinking can further improve the corrosion resistance of the coating.
【作者單位】： 江南大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【基金】：國家自然科學(xué)基金(51573073)~~
【分類號(hào)】：TG174.46

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本文編號(hào)：1970407