本文選題：磁控濺射 + VAlSiN涂層�。� 參考：《材料工程》2017年04期

【摘要】：采用反應(yīng)磁控濺射技術(shù),在300℃下制備不同Si含量的VAlSiN涂層。研究Si含量的變化對(duì)VAlSiN涂層相結(jié)構(gòu)、生長(zhǎng)形貌、化學(xué)狀態(tài)、力學(xué)性能和摩擦磨損性能的影響。結(jié)果表明:不含Si的VAlN涂層呈現(xiàn)(111)擇優(yōu)取向生長(zhǎng)。隨著Si含量的增加,VAlSiN涂層的(111)擇優(yōu)取向逐漸消失,最終轉(zhuǎn)變?yōu)榉蔷ЫY(jié)構(gòu)。Si含量大于1.8%(原子分?jǐn)?shù),下同)的VAlSiN涂層是由nc-VAlN和a-Si_3N_4組成的多相復(fù)合涂層。與VAlN涂層相比,添加少量Si(0.8%)的VAlSiN涂層晶粒尺寸減小,致密度得到提高,對(duì)應(yīng)的涂層硬度也得到顯著增大,達(dá)到30.1GPa。繼續(xù)增加Si的含量,VAlSiN涂層的柱狀生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)被打斷,硬度逐漸下降,最后穩(wěn)定在22GPa左右。VAlSiN涂層的摩擦因數(shù)隨著Si含量的增加先降低后升高。當(dāng)Si含量為0.8%時(shí)涂層的磨損率最低,達(dá)1.2×10~(-16)m~3·N~(-1)·m~(-1)。
[Abstract]:VAlSiN coatings with different Si content were prepared by reactive magnetron sputtering at 300 鈩，

本文編號(hào)：1962549