發(fā)布時間：2018-03-09 11:47

  本文選題：非晶涂層　切入點：Ti含量　出處：《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報》2017年01期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：為了消除磁控濺射涂層的柱狀晶結(jié)構(gòu),提高Ti-B基涂層的耐蝕防護(hù)性能。采用磁控濺射技術(shù),通過成分調(diào)控和工藝調(diào)控,獲得了不同Ti含量的非晶Ti-B涂層。利用X射線衍射、掃描電鏡、納米壓痕儀、電化學(xué)工作站對涂層的結(jié)構(gòu)和性能進(jìn)行了分析。結(jié)果表明:所獲得的不同Ti含量的涂層分別是44.5%,51.6%,55.3%(原子比);三種涂層均為非晶生長結(jié)構(gòu),XRD圖線形狀和變化趨勢均相似;截面形貌差異不大,都為均勻致密的平滑結(jié)構(gòu)。隨著Ti含量的增加,Ti-B涂層的硬度逐漸減小,最小硬度為25.9 GPa,仍屬于硬質(zhì)涂層;涂層的塑性指數(shù)逐漸增大,最大為0.56。三種Ti含量的涂層對于基材SS304都具有耐蝕保護(hù)作用;隨著Ti含量的增加,涂層的耐蝕性能逐漸提高,最小腐蝕電流密度為1.49×10-7A/cm2,比基材降低了大約1個數(shù)量級。通過研究,獲得了綜合性能較高的非晶二元系耐蝕硬質(zhì)TiB基涂層。
[Abstract]:In order to eliminate the columnar structure of magnetron sputtering coatings and improve the corrosion resistance of Ti-B based coatings, amorphous Ti-B coatings with different Ti content were obtained by means of magnetron sputtering technique, composition control and process control. Scanning Electron Microscopy, Nanoindentation, The structure and properties of the coatings were analyzed by electrochemical workstation. The results showed that the coating with different Ti content was 44.55.51.6% and 55.3% (atomic ratio), the XRD patterns of the three coatings were all similar in shape and variation trend. With the increase of Ti content, the hardness of Ti-B coating decreases gradually, and the minimum hardness is 25.9 GPa.It is still a hard coating, and the plastic index of the coating increases gradually. The corrosion resistance of the coating is gradually improved with the increase of Ti content, and the minimum corrosion current density is 1.49 脳 10 ~ (-7) A / cm ~ (2), which is about 1 order of magnitude lower than that of the substrate. Amorphous binary TiB based coatings with high properties were obtained.
【作者單位】： 上海大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所;
【分類號】：TG174.4

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本文編號：1588388