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陰極等離子體電解沉積工藝參數(shù)對放電與沉積過程的影響

發(fā)布時(shí)間:2018-01-25 05:44

  本文關(guān)鍵詞: 陰極等離子體 電解沉積 液相放電 初始放電電壓 出處:《中國表面工程》2016年01期  論文類型:期刊論文


【摘要】:為進(jìn)一步認(rèn)識(shí)和控制陰極等離子體電解沉積過程,研究了工藝條件對鋅沉積時(shí)放電和沉積過程的影響,用掃描電鏡和金相顯微鏡分別觀察沉積層的表面和截面形貌,用能譜儀和X射線衍射儀進(jìn)行沉積層元素和物相分析。結(jié)果表明,極間電壓增大到約200V以上的某一電壓值時(shí)陰極上發(fā)生等離子放電,初始放電電壓與電解槽中的溶劑種類、氯化鈉添加量有關(guān),隨乙醇和氯化鈉添加量的增大而降低。要在陰極上實(shí)現(xiàn)鋅的沉積,就應(yīng)控制工藝條件使初始放電電壓盡量低,且極間電壓宜維持在初始放電電壓以上10~20V。采用水和乙醇混合作溶劑比只用水作溶劑容易實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的陰極沉積,沉積層厚度明顯大,但沉積物表面的顆粒較粗大,致密性要差。
[Abstract]:In order to further understand and control the process of cathodic plasma electrodeposition, the effect of process conditions on the discharge and deposition process of zinc deposition was studied. The surface and cross section morphology of the deposit were observed by scanning electron microscope (SEM) and metallography respectively. The elements and phases of the deposit were analyzed by energy dispersive spectroscopy (EDS) and X-ray diffractometer (XRD). Plasma discharge occurs on the cathode when the voltage between electrodes increases to about 200V. The initial discharge voltage is related to the type of solvent in the electrolyzer and the amount of sodium chloride. In order to achieve zinc deposition on the cathode, the initial discharge voltage should be kept as low as possible by controlling the process conditions. And the voltage between electrodes should be kept above the initial discharge voltage of 10 ~ 20V. It is easier to achieve stable cathodic deposition by using water and ethanol as the mixed solvent than only using water as the solvent, and the thickness of the deposited layer is obviously larger. However, the grain size on the surface of the sediment is thicker and the density is poor.
【作者單位】: 淮海工學(xué)院機(jī)械工程學(xué)院;中國礦業(yè)大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院;江蘇省海洋資源開發(fā)研究院綠色過程與工程研發(fā)中心;
【基金】:國家自然科學(xué)基金(51105162) 江蘇省博士后研究基金(1302084C)
【分類號(hào)】:TG174.44
【正文快照】: 引文格式:楊建明,陳田,陳勁松,等.陰極等離子體電解沉積工藝參數(shù)對放電與沉積過程的影響[J].中國表面工程,2016,29(1):73-79.YANG J M,CHEN T,CHEN J S,et al.Effects of parameters of cathodic plasma electrolytic deposition on theprocess of discharge and deposition[J

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本文編號(hào):1462154

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