本文關(guān)鍵詞：基于人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)預(yù)測Ni-W合金鍍層的硬度和耐腐蝕性能

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【摘要】：目的預(yù)測Ni-W合金鍍層的硬度和耐腐蝕性能,優(yōu)化Ni-W合金鍍層的電沉積工藝。方法在檸檬酸-硫酸鹽溶液體系中直接沉積制備Ni-W合金鍍層,并將實驗所得鍍層數(shù)據(jù)作為學(xué)習(xí)樣品,利用BP神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)對建立了Ni-W合金電沉積過程參數(shù)對鍍層硬度和腐蝕電流密度之間的映射關(guān)系。結(jié)果低碳鋼表面所沉積的Ni-W合金鍍層表面均勻致密,與基體結(jié)合良好,能夠有效地對基體起到保護作用。第二隱層的加入使得3-7-15-2四層網(wǎng)絡(luò)達(dá)到網(wǎng)絡(luò)收斂的訓(xùn)練次數(shù)(1 215 365次)遠(yuǎn)小于3-7-2三層網(wǎng)絡(luò)的訓(xùn)練次數(shù)(239 950 000次)。四層網(wǎng)絡(luò)預(yù)測所得鍍層的硬度和腐蝕電流密度與實驗值十分相近,其相對誤差≤5.03%。結(jié)論 BP神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)能夠準(zhǔn)確建立電沉積Ni-W合金鍍層的工藝條件和目標(biāo)性能之間的映射關(guān)系,在本文所用的沉積體系和參數(shù)范圍內(nèi),Ni-W合金鍍層的顯微硬度在296~982HV之間,其硬度最大時所對應(yīng)的電沉積工藝條件為:p H=7.2,電流密度8 A/dm2,WO42+濃度為0.46 mol/L。Ni-W合金鍍層的腐蝕電流密度在7.3~100μA/cm2范圍內(nèi)。鍍層耐蝕性能最好時,即鍍層腐蝕電流密度最小時的電沉積工藝條件為:p H=6.4,電流密度0.36 A/dm2,WO42+濃度為0.34 mol/L。
【作者單位】： 江西理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;上海大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： Ni-W合金 鍍層 人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò) BP網(wǎng)絡(luò) 硬度 耐蝕性
【基金】：國家自然科學(xué)基金(51504104) 江西省自然科學(xué)基金(20151BAB216012,20161BAB206141) 江西理工大學(xué)博士啟動基金(3401223204)~~
【分類號】：TQ153.2
【正文快照】： Received:2016-05-08;Revised:2016-05-27Fund:Suported by the National Nature Science Foundtion of China(51504104),Natural Science Foundation of Jiangxi province(20151BAB216012,20161BAB206141),and Scientific Research Foundation of Jiangxi University of Scie

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本文編號：974194