本文關鍵詞：熔鹽介質和合成溫度對鎂熱還原法合成h-BN粉體的影響

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【摘要】：為了在較低溫度和較短時間內合成h-BN粉體,以硼砂和鎂粉為原料,以n(NaCl)n(MgCl_2)分別為1:3、1:1和3:1的3種NaCl-MgCl_2和n(KCl)n(MgCl_2)為1:1的KCl-MgCl_2為熔鹽介質,在氮氣氣氛中分別于800、1 000和1 200℃保溫3 h,采用鎂熱還原法合成h-BN,經5%(w)的鹽酸溶液浸泡、抽濾、洗滌、干燥、研磨后得到產物粉體,并進行XRD和SEM分析,研究了不同種類和配比的熔鹽介質及合成溫度對合成產物的物相組成和顯微結構的影響。結果表明:1)在本試驗的不同熔鹽介質和不同溫度下合成的產物粉體均由純相h-BN組成,但h-BN的結晶度隨合成溫度的升高而逐漸提高:在NaCl-MgCl_2熔鹽介質中于1 000℃制備的產物中有片狀h-BN,在1 200℃出現(xiàn)層疊層片狀h-BN,而在KCl-MgCl_2熔鹽介質中于1 200℃才有片狀h-BN。2)在NaCl-MgCl_2熔鹽中通過鎂熱還原法合成h-BN粉體,不僅克服了其他方法合成溫度高的缺陷,同時還有效地控制了h-BN晶粒的尺寸和形貌。
【作者單位】： 中冶賽迪工程技術股份有限公司;
【關鍵詞】： 熔鹽法 鎂熱還原法 六方氮化硼 粉體合成
【分類號】：TQ174.1
【正文快照】： 六方氮化硼(h-BN)在惰性氣氛下的使用溫度可達2 000℃,同時還具有較好的加工性,優(yōu)良的耐磨損性、電絕緣性和化學穩(wěn)定性,與熔融金屬不浸潤,抗化學侵蝕等一系列優(yōu)異性能[1-5],在化工、陶瓷、耐火材料、電子、電工、核工業(yè)等領域被廣泛應用[6-10]。目前,制備h-BN粉體的方法有有機

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