本文關(guān)鍵詞：高濃度砷溶液中電沉積As-Sb合金（英文）

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【摘要】：在高濃度砷溶液中采用電沉積法制備As-Sb合金,考察電解液中電流密度、Sb~(3+)濃度、反應(yīng)溫度和鹽酸濃度對(duì)電沉積過程中電解液成分、槽電壓和電流效率的影響,并采用掃描電鏡(SEM)、電感藕合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)和X射線衍射(XRD)分別對(duì)沉積物的表面形貌、成分和結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析。結(jié)果表明:在所研究的工藝條件下制備的As-Sb合金沉積層均為非晶結(jié)構(gòu)。最優(yōu)工藝如下:As~(3+)濃度為10 g/L,Sb~(3+)濃度為2 g/L,鹽酸濃度為4 mol/L,電流密度為4 m A/cm~2,溫度為20°C,在此條件下電流效率達(dá)到94.74%,沉積層含70.26%As和29.74% Sb(質(zhì)量分?jǐn)?shù)),砷的去除效率較高。
【作者單位】： 浙江工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 含砷溶液 鹽酸體系 電沉積 As-Sb合金
【基金】：Project(51374185) supported by the National Natural Science Foundation of China
【分類號(hào)】：TQ153
【正文快照】： property[12],thermoelectric property[13,14]and1 Introductionelectromagnetic property[15].MUSIANI et al[16]prepared As-Sb alloy by electrodeposition in citric acidUntil now,many scientists have exploited varioussolutions containing As2O3 and Sb Cl3 and di

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中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 ;用于高裝飾精飾電沉積銠[J];材料保護(hù);1999年10期

2 徐秉森 ,劉殿生 ,宋方考;電沉積制備天然，

本文編號(hào)：893705