本文關(guān)鍵詞：工藝腔室溫度場輪廓特性分析及傳熱結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

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【摘要】：反應(yīng)腔室晶片表面溫度分布是影響薄膜沉積均勻性的重要因素。本文以載有晶片的典型化學(xué)氣相沉積反應(yīng)腔室為研究對象,考慮了晶片與加熱盤之間的微小間隙導(dǎo)致的低壓下流固接觸面的溫度跳躍現(xiàn)象,建立了腔室溫度仿真模型。通過模型和實(shí)驗(yàn)研究了腔室氣壓和氣體流量對晶片表面溫度分布的影響,并研究了溫度分布輪廓的調(diào)節(jié)方法及傳熱結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。研究結(jié)果表明,晶圓表面平均溫度隨氣壓的增加而增加,隨氣體流量的增加而降低,晶片從中心到邊緣溫度分布輪廓存在下降的趨勢。通過在加熱盤和晶片之間加入阻抗介質(zhì),可以有效調(diào)節(jié)晶片表面溫度分布輪廓。本文最后通過仿真手段,得到了能使晶片表面溫度均勻分布的阻抗介質(zhì)表面形狀。本文的研究結(jié)果對指導(dǎo)腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和工藝控制具有重要意義。
【作者單位】： 清華大學(xué)深圳研究生院;清華大學(xué)機(jī)械系;
【關(guān)鍵詞】： 工藝腔室 低壓傳熱 溫度輪廓 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
【基金】：國家科技重大專項(xiàng)資助項(xiàng)目(2011ZX02403)
【分類號】：TQ021.3;TB43
【正文快照】： 對于薄膜工藝而言,晶片表面的溫度對薄膜性能具有重要影晌[1]。當(dāng)反應(yīng)腔室載有晶片時(shí),晶片與加熱盤之間存在微小間隙,在較低的工藝壓力條件下,由于氣體稀薄效應(yīng),會(huì)導(dǎo)致間隙內(nèi)流固交界面存在溫度跳躍;低壓條件下氣體傳質(zhì)對流對熱場溫度的影響相比常壓環(huán)境低得多,而熱輻射對傳熱

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