本文關(guān)鍵詞：ZnO基透明導(dǎo)電薄膜的制備和摻雜改性研究進展

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【摘要】：ZnO基透明導(dǎo)電膜的研究進展迅速,其光電性能已接近錫摻雜銦氧化物透明導(dǎo)電薄膜(ITO),而且它相比ITO薄膜易于摻雜、更易刻蝕、在等離子體中穩(wěn)定性好,未來有望成為平板顯示器中取代ITO薄膜的材料。概述了氧化鋅基透明導(dǎo)電膜的制備方法和摻雜改性研究進展,對單層膜和多層膜的制備進行了分析,對氧化鋅基透明導(dǎo)電膜的研究趨勢進行了展望。
【作者單位】： 江蘇大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;江蘇新浦電子科技有限公司;
【關(guān)鍵詞】： 氧化鋅 透明導(dǎo)電薄膜 制備方法 摻雜改性 研究進展
【基金】：溧陽市科技項目資助(LA2015001)
【分類號】：TQ132.41;TB383.2
【正文快照】： 0引言近年來,隨著光波導(dǎo)材料、平板顯示器、導(dǎo)電氣敏傳感器等的大力發(fā)展,TCO透明氧化物導(dǎo)電薄膜作為一種集透明光性能與導(dǎo)電性能于一體的新型光電材料,正受到人們廣泛關(guān)注[1-3]。目前,應(yīng)用最多的是錫摻雜銦氧化物透明導(dǎo)電薄膜(ITO),其由于透光率高、電導(dǎo)性好、硬度高等優(yōu)點,廣

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