本文關(guān)鍵詞：酸蝕刻熔石英過程中再沉積物形成機(jī)理研究

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【摘要】：酸蝕刻技術(shù)是一個(gè)基于氫氟酸與光學(xué)玻璃反應(yīng)提高激光損傷閾值的過程。酸蝕刻過程中再沉積物的形成過程涉及了復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng),如反應(yīng)動(dòng)力學(xué)、反應(yīng)物和產(chǎn)物的傳質(zhì)過程、化學(xué)反應(yīng)空間分布等機(jī)理問題。再沉積物的種類及數(shù)量對(duì)光學(xué)玻璃激光誘導(dǎo)損傷閾值有重要影響。因此,研究HF酸蝕刻熔石英過程中再沉積物形成機(jī)理及蝕刻后玻璃表面性質(zhì)的變化對(duì)光學(xué)玻璃激光誘導(dǎo)損傷閾值的影響,將為光學(xué)元件后處理提供必要的技術(shù)支撐。本論文采用理論和實(shí)驗(yàn)結(jié)合的方法,基于二維傳質(zhì)模型與測(cè)量的酸蝕速率等數(shù)據(jù)對(duì)再沉積物的形成和傳質(zhì)過程原理進(jìn)行了模擬分析;并采用光學(xué)顯微鏡、AFM、紫外可見分光光度計(jì)等測(cè)試手段分別對(duì)蝕刻前后的K9玻璃和熔石英進(jìn)行了表面形貌觀察和透過率測(cè)試;用分子熒光光譜和XRD,再結(jié)合X射線光電子能譜(XPS)和飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS),對(duì)K9玻璃和熔石英進(jìn)行了表面雜質(zhì)元素和生成再沉積物的分析;測(cè)定了酸蝕刻熔石英的激光損傷閾值。結(jié)果表明:影響再沉積物形成的主要外在因素有蝕刻液的種類、濃度、蝕刻的時(shí)間以及蝕刻后的清洗方式;配置蝕刻液的去離子水純度越高則越不易形成再沉積物,緩沖蝕刻液(BOE)比單獨(dú)的HF酸溶液更容易使再沉積物形成;蝕刻液濃度越高以及靜態(tài)蝕刻時(shí)間越長(zhǎng)就越能促使再沉積物的形成;蝕刻后的清洗方式可使再沉積物減少,去除效果依次是超聲清洗噴淋清洗浸沒清洗。K9玻璃蝕刻實(shí)驗(yàn)研究表明:用質(zhì)量分?jǐn)?shù)1%HF酸溶液或BOE(15:1)蝕刻10 min鐘后,亞表面缺陷和表面雜質(zhì)逐漸暴露,若蝕刻后未及時(shí)清洗則會(huì)殘留蝕刻痕跡,將產(chǎn)生大量的再沉積物,提高試片表面粗糙度,且這些再沉積物含量越多,則試片的透過率和損傷閾值就越低;若試片經(jīng)過清洗,其粗糙度也都有所提高,當(dāng)僅用HF酸溶液蝕刻時(shí)試片透過率有輕微提高,用BOE蝕刻反而有輕微下降,另外用去離子水配置1%HF酸溶液使K9玻璃的基頻損傷閾值得到提高,其提升幅度達(dá)到38.69%;短時(shí)間的靜態(tài)蝕刻影響試片損傷閾值的主要因素為表面再沉積物。熔石英蝕刻實(shí)驗(yàn)研究表明:用質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%HF酸溶液對(duì)熔石英蝕刻處理時(shí),隨著蝕刻時(shí)間的增加,表面出現(xiàn)蝕坑且逐漸增多,尺寸逐漸變大,表面粗糙呈指數(shù)形式增大,且試片透過率逐漸下降。經(jīng)蝕刻24h后,長(zhǎng)時(shí)間靜態(tài)蝕刻使得試片表面粗糙度成為影響熔石英三倍頻損傷閾值的主要因素,粗糙度越大損傷閾值越低;經(jīng)XPS和SIMS分析確定熔石英表面主要存在有B、F、K、Ca、Na、Al等雜質(zhì)元素,除K、Ca外幾乎都處于貝氏層,只有K元素嵌入深度可達(dá)到200 nm深度;蝕刻過程中這些雜質(zhì)元素會(huì)隨著蝕刻液向熔石英表面縱深方向擴(kuò)散,且形成主要沉積物為Na2Si F6和K2SiF6;通過用質(zhì)量分?jǐn)?shù)為40%HF酸蝕刻熔石英60 min,選用超聲清洗后,表面測(cè)試點(diǎn)的激光損傷閾值普遍提高,其閾值提升幅度達(dá)到31.37%。
【關(guān)鍵詞】：化學(xué)酸蝕 熔石英 雜質(zhì)元素 再沉積物 激光誘導(dǎo)損傷閾值
【學(xué)位授予單位】：西南科技大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2016
【分類號(hào)】：TQ171.1
【目錄】：

• 摘要4-6
• Abstract6-10
• 1 緒論10-16
• 1.1 引言10-11
• 1.2 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀11-15
• 1.3 課題來源及主要研究?jī)?nèi)容15
• 1.3.1 課題來源15
• 1.3.2 主要研究?jī)?nèi)容15
• 1.4 本研究的創(chuàng)新點(diǎn)與意義15-16
• 1.4.1 創(chuàng)新點(diǎn)15
• 1.4.2 意義15-16
• 2 再沉積物形成原理分析16-25
• 2.1 再沉積物的形成原理16
• 2.2 K9玻璃和熔石英酸蝕過程中質(zhì)量損失的測(cè)定16-20
• 2.2.1 K9玻璃酸蝕質(zhì)量損失測(cè)定17-19
• 2.2.2 熔石英酸蝕質(zhì)量損失測(cè)定19-20
• 2.3 再沉積物形成和傳質(zhì)模型20-25
• 3 K9玻璃酸蝕前后的材料特性表征25-40
• 3.1 K9玻璃光學(xué)顯微鏡觀察26-28
• 3.2 K9玻璃的原子力顯微鏡形貌測(cè)試（AFM）28-31
• 3.3 K9玻璃的透過率測(cè)試31-33
• 3.4 K9玻璃表面元素分析33-38
• 3.4.1 X射線光電子能譜測(cè)試分析（XPS）33-35
• 3.4.2 飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜測(cè)試分析（TOF-SIMS）35-38
• 3.5 小結(jié)38-40
• 4 熔石英酸蝕前后的材料特性表征40-72
• 4.1 實(shí)驗(yàn)方案40-41
• 4.2 熔石英光學(xué)顯微鏡觀察41-42
• 4.3 熔石英的原子力顯微鏡形貌測(cè)試（AFM）42-44
• 4.4 熔石英的透過率測(cè)試44-48
• 4.5 熔石英的分子熒光光譜分析測(cè)試48-51
• 4.6 熔石英掃描電鏡觀察分析（SEM）51-53
• 4.7 熔石英X射線衍射測(cè)試分析（XRD）53-54
• 4.8 熔石英本身及在酸蝕過程中表面雜質(zhì)元素的變化分析54-70
• 4.8.1 飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜測(cè)試（TOF-SIMS）54-68
• 4.8.2 X射線光電子能譜測(cè)試（XPS）68-70
• 4.9 小結(jié)70-72
• 5 再沉積物與熔石英激光損傷閾值關(guān)系研究72-80
• 5.1 K9玻璃的基頻激光損傷閾值測(cè)試72-75
• 5.2 熔石英的三倍頻激光損傷閾值測(cè)試75-78
• 5.2.1 長(zhǎng)時(shí)間蝕刻后的熔石英損傷閾值75-76
• 5.2.2 不同酸濃度及洗滌方式對(duì)熔石英損傷閾值的影響76-78
• 5.3 小結(jié)78-80
• 結(jié)論80-82
• 致謝82-83
• 附錄83-91
• 附表 1：K9-1/15-70玻璃試片的實(shí)驗(yàn)條件和平均質(zhì)量損失記錄83-85
• 附表 2：K9-1/15-700玻璃試片的實(shí)驗(yàn)條件和平均質(zhì)量損失記錄85-86
• 附表 3：FS-1/15-700玻璃試片的實(shí)驗(yàn)條件和平均質(zhì)量損失記錄86-88
• 附表 4：測(cè)試或?qū)嶒?yàn)儀器信息及測(cè)試試樣制備88-90
• 附圖 1：“再沉積物形成和傳質(zhì)模型”計(jì)算所用軟件截圖90-91
• 參考文獻(xiàn)91-95
• 攻讀碩士期間發(fā)表的論文及研究成果95

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本文編號(hào)：571663