本文關(guān)鍵詞：高壓熱處理AlN陶瓷晶體的生長動力學(xué)

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【摘要】：利用國產(chǎn)六面頂壓機,對AlN(Y_2O_3)陶瓷進行了高壓(5.0 GPa)熱處理,對高壓熱處理AlN陶瓷的宏觀動力學(xué)進行了研究。結(jié)果表明:超高壓熱處理時,溫度越高、熱處理時間越長,AlN晶粒粒徑越大,晶體結(jié)構(gòu)越完整。動力學(xué)分析表明,在熱處理溫度范圍內(nèi)(970~1210℃),AlN晶體生長動力學(xué)指數(shù)為3,晶體生長激活能為(50.6±9.6)k J/mol。高壓熱處理時,AlN試樣內(nèi)部物質(zhì)遷移的主要機制是壓力強化的體積擴散。
【作者單位】： 河南理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;吉林大學(xué)超硬材料國家重點實驗室;
【關(guān)鍵詞】： 高壓熱處理 AlN陶瓷 動力學(xué) 晶體生長
【基金】：國家自然科學(xué)基金(51001042) 吉林大學(xué)超硬材料國家重點實驗室開放項目 河南理工大學(xué)博士基金(B2009-31)
【分類號】：TQ174.1
【正文快照】： 陶瓷材料中,Al N具有很高的熱導(dǎo)率,僅次于Si C和Be O,機械強度和介電強度都優(yōu)于Al2O3陶瓷,膨脹系數(shù)、介電性能分別與單晶硅和Al2O3陶瓷相近,因此在電力電子領(lǐng)域越來越多的替代氧化鈹或氧化鋁陶瓷做高密度、高性能電子封裝的陶瓷基板材料[1]。A1N晶體的理論熱導(dǎo)率為320 W/(m·K

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本文編號：540327