過渡金屬氧化物對金剛石單晶刻蝕的研究
【文章頁數(shù)】:74 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.1金剛石晶胞結(jié)構(gòu)示意圖
1緒論構(gòu)、性質(zhì)與應(yīng)用子之間的排列方式造成了金剛石獨(dú)特的方式與相鄰的四個(gè)原子以共價(jià)鍵的方間的鍵角為109°28′鍵長為1.54,中的原子是按照面心立方堆積方式排列原子,每個(gè)面的面心有一個(gè)與相鄰晶胞構(gòu)如圖1.1所示。
圖1.2金剛石{100}面及{111}面原子排列示意圖
圖1.1金剛石晶胞結(jié)構(gòu)示意圖品級較好的金剛石晶體主要由{100}面和{111}面組成,金剛石的各向異性的不同方向上碳原子的數(shù)量不同,圖1.2是金剛石{100}面和{111}面原子排列[9],{100}面與{111}面原子密度之比為1:1.155,晶面中原子密度越大,原子....
圖1.1化學(xué)鍍流程圖
Sn2++Pd2+=Pd+Sn4+催化活性的金屬沉積于金剛石表面。對于金剛石微粉用鉻酸洗液對進(jìn)金剛石進(jìn)行親水化處理,能夠有效提見的單組分金屬鍍覆品種為鍍鎳和鍍銅,鍍鎳的基本H3PO2+H2O=H3PO3+2H++2e-Ni2++2e-=Ni為:Ni2++H3PO2+H2O=Ni....
圖1.3Ib型金剛石表面刻蝕后制備的金剛石納米線照片
離子體刻蝕的主要為反應(yīng)離子刻蝕,是利用轟擊的同時(shí)與金剛石表層原子進(jìn)行反應(yīng)達(dá)到刻蝕技術(shù),用氧等離子體在納米晶金剛石膜程中加入了CHF3用以減緩刻蝕地進(jìn)行,防止備了波導(dǎo)結(jié)構(gòu),在此研究基礎(chǔ)上,又用光刻的組合在Ib型金剛石表面刻蝕出波導(dǎo)結(jié)構(gòu),技術(shù)基礎(chǔ)[124]。Janssen等人....
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