文章介紹了幾種常見的電子級多晶硅生產(chǎn)技術(shù),分析了我國在該項(xiàng)目中的主要特征和優(yōu)勢,并指出在生產(chǎn)電子級多晶硅時應(yīng)注意的關(guān)鍵工藝,以期為有關(guān)部門提供參考。

【文章頁數(shù)】：2 頁

【文章目錄】：
1 常見電子級多晶硅的生產(chǎn)技術(shù)
    1.1 硅烷CVD法
    1.2 改良西門子法
    1.3 氣液沉積法
2 我國生產(chǎn)電子級多晶硅的主要項(xiàng)目特征與優(yōu)勢
    2.1 提升了控制精餾裝置的水準(zhǔn)
    2.2 明顯提高了產(chǎn)品的質(zhì)量
    2.3 低溫SiCl4轉(zhuǎn)化技術(shù)的應(yīng)用優(yōu)勢
3 生產(chǎn)電子級多晶硅時應(yīng)注意的關(guān)鍵工藝
    3.1 生產(chǎn)原輔料
    3.2 工藝硬件
    3.3 項(xiàng)目還原工藝
    3.4 其余關(guān)鍵工藝要點(diǎn)
4 結(jié)束語



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