隨著各國經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展以及世界石油能源的進(jìn)一步枯竭,能源問題變得越發(fā)嚴(yán)峻。因而,迫切需要探求一種新興的以及環(huán)保潔凈的生產(chǎn)新能源方法來解決能源需求問題。近年來,g-C₃N₄因其是一種廉價(jià)易得的光催化材料,并且還具有較高的耐熱穩(wěn)定性和較好的耐酸堿腐蝕性能,以及可以在可見光下制氫,這些特性使其成為一個(gè)新的研究熱點(diǎn)。g-C₃N₄的優(yōu)點(diǎn)雖然有很多,但g-C₃N₄因其本身光生電子-空穴對的快速重組和光利用效率太低等缺陷,導(dǎo)致光催化活性太低,嚴(yán)重限制了其在眾多領(lǐng)域中的應(yīng)用發(fā)展。但仍然有很多的修飾手段來提高g-C₃N₄的光催化性能,在眾多的表面修飾方法當(dāng)中,雙金屬磷化物修飾g-C₃N₄是一種有效提高光催化活性的手段。這主要是由于雙金屬磷化物具有理想的導(dǎo)電性、雙金屬原子的協(xié)同效應(yīng)和結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性的優(yōu)點(diǎn),是目前非常理想的助催化劑。本章主要通過制備不同的雙金屬磷化物來修飾g-C₃

【文章來源】：江蘇大學(xué)江蘇省

【文章頁數(shù)】：75 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

不同n型半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu)位置

圖 1.2 光催化劑的電子以及空穴反應(yīng)路徑圖。Figure 1.2 Electron and hole reactions path diagrams for photocatalyst.催化半導(dǎo)體材料的應(yīng)用化材料鑒于其便捷、高效和節(jié)能等特點(diǎn)，在光降解污染物、光 CO2和有機(jī)合成等方面有著極大的優(yōu)勢。以下將從四個(gè)方面細(xì)的介紹：） 光降解污染物全球經(jīng)濟(jì)和工業(yè)的大力發(fā)展，特別是處于發(fā)展中的國家，環(huán)境可忽視的難點(diǎn)。在國內(nèi)外眾多的污水處理技術(shù)中，急需安全、夠處理低濃度持久性有機(jī)污染物的技術(shù)。將光催化技術(shù)應(yīng)用在染料是非常具有前景的綠色化學(xué)技術(shù)，在自然條件下（紫外光解廢水中高毒性的有機(jī)污染物是有效可行的方法。如圖 1.3 所解反應(yīng)的歷程。Li 等人[20]制備出介孔 mes-Fe3O4/g-C3N4光催具有代表性的污染物鹽酸四環(huán)素（TC-HCl）。在 120min 內(nèi) g-解效率為 23.3%，但 mes-Fe3O4/g-C3N4對污染物的降解卻達(dá)到

圖 1.3 光催化降解反應(yīng)機(jī)理圖。Figure 1.3 The mechanism plot of photocatalytic degradation.圖 1.4 經(jīng)典染料污染物分子在 Ag2CO3上的吸收位置和微反應(yīng)機(jī)理圖。.4 Absorption sites and microreaction schematic of classical dye pollutant mo

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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本文編號(hào)：3545806