高效穩(wěn)定硅基光解水光電極的研究
發(fā)布時(shí)間:2021-11-04 00:54
將半導(dǎo)體作為光電極用于光電化學(xué)(PEC)分解水制氫被廣泛認(rèn)為是最有希望解決能源危機(jī)和環(huán)境問題的途徑之一。硅(Si),由于其接近理想的能帶結(jié)構(gòu)、優(yōu)異的電荷載流子傳輸性質(zhì)和較低的制備成本,是一種光電極材料的合適候選者,但目前Si基光電極的實(shí)際PEC分解水效率和穩(wěn)定性遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足太陽能制氫的實(shí)際需要。本論文介紹了 Si光電極的效率和穩(wěn)定性的定義和研究進(jìn)展,然后提出了高效穩(wěn)定Si光電極的幾種途徑,包括表面微納結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),保護(hù)層制備,催化劑修飾和系統(tǒng)的集成;谶@些設(shè)計(jì)和實(shí)驗(yàn)研究,最終實(shí)現(xiàn)了 Si基光電極的無輔助太陽能分解水系統(tǒng)。主要工作如下:(1)使用大氣等離子體氧化法在Pt修飾的多晶n+p-Si光陰極上制備SiO2保護(hù)層。Pt保持與Si直接接觸,同時(shí)Si表面其他部分被SiO2層鈍化,使得表面載流子壽命增加,伴隨著電極/電解質(zhì)界面上電荷分離和轉(zhuǎn)移的增強(qiáng)。與未經(jīng)過處理的Si光陰極相比,經(jīng)過等離子體氧化處理的Pt/n+p-Si光陰極的能量轉(zhuǎn)換效率(η)從6.2%增加到8.9%,并且其穩(wěn)定性從小于1小時(shí)提高到22小時(shí)。相應(yīng)的結(jié)果已發(fā)表在 Applied Physics Letters 109(2016...
【文章來源】:蘇州大學(xué)江蘇省 211工程院校
【文章頁數(shù)】:125 頁
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖1-1?(a)光陰極的穩(wěn)定性隨著其廣從導(dǎo)帶最小值(CBM).匕方向下移動(dòng)到()HH7H2)以下??的變化
第一章引言?高效穩(wěn)定硅基光解水光電極的研究??能提供穩(wěn)定的陰極偏壓,而這種偏壓恰恰對電極的穩(wěn)定性至關(guān)重要[33]。克服此難??題最直接方法是在Si光電極與電解質(zhì)接觸的表面制備一層化學(xué)穩(wěn)定的保護(hù)層,利??用保護(hù)層阻擋Si表面免受反應(yīng)條件的影響。該保護(hù)層必須高度穩(wěn)定,但也必須具??有足夠的導(dǎo)電性和透明性,以保持電荷快速轉(zhuǎn)移和Si電極對太陽光的高效利用[34]。??盡管己經(jīng)取得了許多進(jìn)展,但在PEC條件下制備穩(wěn)定的Si光電極仍然非常具有挑??戰(zhàn)性。一般來說,在光照和/或黑暗下進(jìn)行長時(shí)間的光電流密度隨時(shí)間變化的(J-T)??測試或重復(fù)PEC?J-V曲線測試可以研究光電極的穩(wěn)定性。??1.3?Si光電極分解水的研究策略??1.3.1表面微納結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)??m?i??圖1-2不同Si光陰極表面微納結(jié)構(gòu)的SEM。?(a)微米線結(jié)構(gòu);(b)納米柱結(jié)構(gòu);(c)微??金字塔結(jié)構(gòu);(d)納米黑硅結(jié)構(gòu)。??c-Si導(dǎo)帶的最小值和價(jià)帶的最大值在波矢空間中位于不同的位置,表明c-Si是??間接帶隙半導(dǎo)體。與直接帶隙材料相比,c-Si的光學(xué)性質(zhì)相對較差,需要至少50??微米厚的吸收體才能獲得實(shí)質(zhì)的光學(xué)吸收P5,?36]。c-Si的窄帶隙允許對從紫外到??近紅外波長范圍內(nèi)的太陽光光譜進(jìn)行有效光吸收。在一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的太陽光照射下,其??理論最大光電流可達(dá)44?mA/cm2。然而,平面Si/水的界面上大約有25%的入射可??見光被反射[19]。與固態(tài)光伏電池中使用的結(jié)構(gòu)類似,將微納結(jié)構(gòu)引入Si光電極??表面可以增強(qiáng)光吸收,因此可以提高光電極的能量轉(zhuǎn)換效率[37]。如圖1-2所示,??6??
高效穩(wěn)定硅基光解水光電極的研究?第三章大氣等離子體氧化處理對Si光陰極特性的影響??Gas?inlet??\?/?Argon?+?oxygen??I?Matching??Box?〒??Power?0??Current?Coil??IPi??Plasma?jet?]??^-Si??圖3-2自制的大氣等離子放電裝置的示意圖。??Si光陰極表面的氧化處理在自制的大氣等離子放電裝置上進(jìn)行,裝置的示意??圖如圖3-2所示。該裝置主要由電極和圓柱形石英管組成。石英管的內(nèi)徑和外徑分??別為6?mm和8?mm。電極位于石英管的軸線上,由直徑為3?mm,長度為215?mm??的鎢棒所制成。使用同軸圓柱形不銹鋼作為接地電極。大氣壓下的等離子體是使用??功率為20?W的電容耦合射頻(2?MHz)放電產(chǎn)生的。使用的源氣體為5000?seem??的高純度Ar流和10?seem的〇2流。??3.3實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論??3.3.1?Si光陰極結(jié)構(gòu)和表面成分分析??Plasma?SiO}/n*p-Si??-?—?Native?^?1??圖3-3不同Si光陰極的橫截面TEM照片:(a)?Pt@Si02/n>Si中的Pt/Si接觸和(b)?Pt/原??生Si02/n_p-Si中的Pt/原生Si02和原生Si02/Si接觸。(c)原生SiO:(藍(lán)色),濕化學(xué)蝕刻處??理(紫紅)以及隨后經(jīng)過大氣等離子體氧化處理80s后的(紅色)n'p-Si表面的XPS。插圖:??大氣氧等離子體處理irp-Si表面Si02層的TEM圖像。在TEM樣品制備前先濺射一層薄的??Pt層,便于觀察Si02層。??27??
本文編號(hào):3474678
【文章來源】:蘇州大學(xué)江蘇省 211工程院校
【文章頁數(shù)】:125 頁
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖1-1?(a)光陰極的穩(wěn)定性隨著其廣從導(dǎo)帶最小值(CBM).匕方向下移動(dòng)到()HH7H2)以下??的變化
第一章引言?高效穩(wěn)定硅基光解水光電極的研究??能提供穩(wěn)定的陰極偏壓,而這種偏壓恰恰對電極的穩(wěn)定性至關(guān)重要[33]。克服此難??題最直接方法是在Si光電極與電解質(zhì)接觸的表面制備一層化學(xué)穩(wěn)定的保護(hù)層,利??用保護(hù)層阻擋Si表面免受反應(yīng)條件的影響。該保護(hù)層必須高度穩(wěn)定,但也必須具??有足夠的導(dǎo)電性和透明性,以保持電荷快速轉(zhuǎn)移和Si電極對太陽光的高效利用[34]。??盡管己經(jīng)取得了許多進(jìn)展,但在PEC條件下制備穩(wěn)定的Si光電極仍然非常具有挑??戰(zhàn)性。一般來說,在光照和/或黑暗下進(jìn)行長時(shí)間的光電流密度隨時(shí)間變化的(J-T)??測試或重復(fù)PEC?J-V曲線測試可以研究光電極的穩(wěn)定性。??1.3?Si光電極分解水的研究策略??1.3.1表面微納結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)??m?i??圖1-2不同Si光陰極表面微納結(jié)構(gòu)的SEM。?(a)微米線結(jié)構(gòu);(b)納米柱結(jié)構(gòu);(c)微??金字塔結(jié)構(gòu);(d)納米黑硅結(jié)構(gòu)。??c-Si導(dǎo)帶的最小值和價(jià)帶的最大值在波矢空間中位于不同的位置,表明c-Si是??間接帶隙半導(dǎo)體。與直接帶隙材料相比,c-Si的光學(xué)性質(zhì)相對較差,需要至少50??微米厚的吸收體才能獲得實(shí)質(zhì)的光學(xué)吸收P5,?36]。c-Si的窄帶隙允許對從紫外到??近紅外波長范圍內(nèi)的太陽光光譜進(jìn)行有效光吸收。在一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的太陽光照射下,其??理論最大光電流可達(dá)44?mA/cm2。然而,平面Si/水的界面上大約有25%的入射可??見光被反射[19]。與固態(tài)光伏電池中使用的結(jié)構(gòu)類似,將微納結(jié)構(gòu)引入Si光電極??表面可以增強(qiáng)光吸收,因此可以提高光電極的能量轉(zhuǎn)換效率[37]。如圖1-2所示,??6??
高效穩(wěn)定硅基光解水光電極的研究?第三章大氣等離子體氧化處理對Si光陰極特性的影響??Gas?inlet??\?/?Argon?+?oxygen??I?Matching??Box?〒??Power?0??Current?Coil??IPi??Plasma?jet?]??^-Si??圖3-2自制的大氣等離子放電裝置的示意圖。??Si光陰極表面的氧化處理在自制的大氣等離子放電裝置上進(jìn)行,裝置的示意??圖如圖3-2所示。該裝置主要由電極和圓柱形石英管組成。石英管的內(nèi)徑和外徑分??別為6?mm和8?mm。電極位于石英管的軸線上,由直徑為3?mm,長度為215?mm??的鎢棒所制成。使用同軸圓柱形不銹鋼作為接地電極。大氣壓下的等離子體是使用??功率為20?W的電容耦合射頻(2?MHz)放電產(chǎn)生的。使用的源氣體為5000?seem??的高純度Ar流和10?seem的〇2流。??3.3實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論??3.3.1?Si光陰極結(jié)構(gòu)和表面成分分析??Plasma?SiO}/n*p-Si??-?—?Native?^?1??圖3-3不同Si光陰極的橫截面TEM照片:(a)?Pt@Si02/n>Si中的Pt/Si接觸和(b)?Pt/原??生Si02/n_p-Si中的Pt/原生Si02和原生Si02/Si接觸。(c)原生SiO:(藍(lán)色),濕化學(xué)蝕刻處??理(紫紅)以及隨后經(jīng)過大氣等離子體氧化處理80s后的(紅色)n'p-Si表面的XPS。插圖:??大氣氧等離子體處理irp-Si表面Si02層的TEM圖像。在TEM樣品制備前先濺射一層薄的??Pt層,便于觀察Si02層。??27??
本文編號(hào):3474678
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