硅芯在制造過程中和在還原爐初期沉積過程中不同程度受到雜質的污染,本論文針對硅棒生長過程中硅芯部位雜質來源,從石墨部件、惰性氣體、硅芯制備工藝、潔凈操作等各個環(huán)節(jié)的雜質污染情況著手試驗研究,找到電子級多晶硅硅芯雜質的主要來源。 

【文章來源】：化工管理. 2020,(31)

【文章頁數(shù)】：2 頁

【文章目錄】：
0 引言
1 石墨部件影響
2 無定型硅的影響
3 硅芯制備方式影響
4 潔凈操作影響
5 結語


【參考文獻】：
期刊論文
[1]電子級多晶硅金屬雜質來源探討[J]. 高召帥,于躍,謝世鵬,厲忠海,王培.  山東化工. 2018(20)
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本文編號：3467285