為適應(yīng)高速發(fā)展且日益激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng),自由曲面結(jié)構(gòu)在高技術(shù)領(lǐng)域產(chǎn)品開(kāi)發(fā)中得到廣泛的應(yīng)用,對(duì)曲面表面精度和表面質(zhì)量的要求也越來(lái)越高。拋光技術(shù)作為精密及超精密元件加工的最后一道工序,制約著工件的表面質(zhì)量、精度及整個(gè)加工周期。對(duì)于自由曲面結(jié)構(gòu),目前化學(xué)機(jī)械拋光、數(shù)控小磨頭拋光、氣囊拋光等主流拋光技術(shù)存在拋光工具無(wú)法與自由曲面工件高度貼合、對(duì)設(shè)備性能要求高導(dǎo)致價(jià)格昂貴等問(wèn)題。綜合對(duì)比,磁性拋光技術(shù)因其拋光工具是柔性的磁性簇,能夠與自由曲面工件表面完全吻合,加工工件表面質(zhì)量好,而且對(duì)設(shè)備性能和精度要求不高,成本適宜,因此適用于對(duì)自由曲面結(jié)構(gòu)的精密加工。本文立足于磁性拋光技術(shù)的基礎(chǔ)性工藝規(guī)律研究,同時(shí)對(duì)微結(jié)構(gòu)自由曲面應(yīng)用展開(kāi)實(shí)驗(yàn)研究。主要研究?jī)?nèi)容如下:（1）結(jié)合磁性拋光原理和試驗(yàn)加工要求,設(shè)計(jì)了磁性拋光工具結(jié)構(gòu);分析拋光體各組成成分在參與拋光過(guò)程中發(fā)揮的作用,采用高效的配方制備磁性拋光體;將課題組已有的4軸數(shù)控銑床與磁性拋光工具、磁性拋光體搭建成加工試驗(yàn)平臺(tái)。（2）根據(jù)拋光工具加工運(yùn)動(dòng)方式計(jì)算出拋光區(qū)域任意點(diǎn)的速度模型,并通過(guò)實(shí)驗(yàn)測(cè)試的方法得到拋光區(qū)的徑向壓力分布模型,基于Preston方程建立特定... 

【文章來(lái)源】：廈門大學(xué)福建省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁(yè)數(shù)】：97 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

圖１．１?ＦＳＧＪ－２加工中心??

?磁性拋光工藝技術(shù)研究及對(duì)自由曲面結(jié)構(gòu)的加工應(yīng)用???度達(dá)到ＲＭＳＸ／２０的９１０ｍｍ?ｆ／２拋物鏡［１２］。長(zhǎng)春光機(jī)所結(jié)合將自主研制的拋光盤??結(jié)合ＣＣＯＳ平轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)方式［１３“４］，解決了應(yīng)力盤僅能夠加工圓形鏡面工件的問(wèn)??題，幾乎能夠加工所有形狀的光學(xué)元件。中科院光電研究所實(shí)現(xiàn)了將應(yīng)力盤拋光??技術(shù)應(yīng)用于１．２５ｍ?ｆ／１．５的拋物面主鏡的高精度加工，面形誤差收斂至ＲＭＳ為??１９．６ｎｍ，ＰＶ?為?１４１ｎｍ［１５－１７］〇??

．ｍ?Ｌｏｎ－ｇｕｎ??ｍ??圖１．３離子束加工原理圖??長(zhǎng)春光機(jī)所采用引進(jìn)的ＩＢＦ－１５００離子束拋光設(shè)備（如圖１．４所示）對(duì)大口??徑非球面反射鏡進(jìn)行加工，拋光３０小時(shí)后面形誤差從ＲＭＳ?５０．９ｎｍ降到ＲＭＳ??８．８ｎｍ；唐瓦等人修正了對(duì)離軸非球面離子束拋光的去除函數(shù)，進(jìn)而對(duì)離軸非球??面工件拋光，面形ＲＭＳ收斂率達(dá)２．７７［１９＿２２］。國(guó)防科技大學(xué)廖文林等人利用原子??力顯微鏡研究了高斜率光學(xué)元件在ＩＢＦ過(guò)程中熔融石英表面的形貌演化機(jī)制，并??得出離子入射角主導(dǎo)著ＩＢＦ過(guò)程中的微觀形態(tài)［２＞２５］。??■．丨：；??？９?｜ｉ．：??ｆ一’＾??圖１．４?ＩＢＦ－１５００離子束拋光設(shè)備??５??

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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博士論文
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碩士論文
[1]基于五軸混聯(lián)氣囊拋光機(jī)的氣囊拋光工藝研究[D]. 朱傳睿.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 2016
[2]基于數(shù)控加工大口徑非球面主鏡的均勻去除方法研究[D]. 張偉.中國(guó)科學(xué)院研究生院(光電技術(shù)研究所) 2016
[3]氧化鋁/二氧化硅復(fù)合磨料的制備及其CMP性能研究[D]. 汪亞軍.合肥工業(yè)大學(xué) 2016
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