本文利用Innography專利數(shù)據(jù)庫及Web of Science論文數(shù)據(jù)庫檢索系統(tǒng),對(duì)我國石墨烯技術(shù)進(jìn)行專利布局和論文統(tǒng)計(jì)分析,深入研究了我國石墨烯領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究和應(yīng)用研究情況。研究表明:我國石墨烯技術(shù)當(dāng)前處于快速成長(zhǎng)階段,主要技術(shù)領(lǐng)域集中于石墨烯及其化合物的制備、石墨烯電池及石墨烯半導(dǎo)體器件等方面,技術(shù)創(chuàng)新主體以科研院所和大學(xué)為主導(dǎo),企業(yè)研發(fā)能力有待提升。我國在石墨烯領(lǐng)域的專利布局以國內(nèi)為主體,專利質(zhì)量不高,整體實(shí)力偏弱,高影響力學(xué)術(shù)論文占比也不高,應(yīng)加強(qiáng)石墨烯專利海外布局,加大資金投入力度和研發(fā)力度,使我國石墨烯技術(shù)向產(chǎn)業(yè)化方向快速發(fā)展。 

【文章來源】：全球科技經(jīng)濟(jì)瞭望. 2020,35(03)

【文章頁數(shù)】：10 頁

【部分圖文】：

我國石墨烯技術(shù)每年論文發(fā)表量及專利申請(qǐng)量變化圖

我國石墨烯技術(shù)累計(jì)論文發(fā)表量及專利申請(qǐng)量變化圖

對(duì)專利數(shù)據(jù)進(jìn)行IPC分類，得到排名前10的石墨烯專利技術(shù)領(lǐng)域（見表2）。可以看出，我國石墨烯專利技術(shù)領(lǐng)域重點(diǎn)關(guān)注石墨烯電池電極的制造（如H01M4、H01M10等），其次是石墨烯及其化合物的制備（如C01B31、C08L23等），此外還有石墨烯半導(dǎo)體等電子設(shè)備的制造（如H01L31等）。目前我國已逐漸加大石墨烯在電極材料、半導(dǎo)體等電子器件領(lǐng)域的研發(fā)力度，但仍未實(shí)現(xiàn)其大規(guī)模應(yīng)用，需要進(jìn)一步加大資金投入和研發(fā)力度。圖5 我國石墨烯技術(shù)專利強(qiáng)度分布

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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碩士論文
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本文編號(hào)：3441112