氟化物玻璃陶瓷具有長(zhǎng)石質(zhì)日用瓷相似的外觀和使用性質(zhì)。提高氟化物玻璃陶瓷的抗熱震性對(duì)拓展其應(yīng)用具有重要的意義。玻璃陶瓷的抗熱震性主要與其熱膨脹系數(shù)、強(qiáng)度等性質(zhì)有關(guān),這些性質(zhì)又與顯微結(jié)構(gòu)以及工藝條件有關(guān),例如玻璃陶瓷的析晶狀況,鋼化的程度等。在工藝條件不發(fā)生重大改變的前提下,玻璃陶瓷的配方組成是對(duì)性質(zhì)影響最重要的因素。因此,本論文在現(xiàn)有體系的基礎(chǔ)上,研究了組成中Ba O、Ca O、K₂O等氧化物對(duì)析晶以及主要性質(zhì)的影響,并獲得了抗熱震性較好的氟化物玻璃陶瓷配方。同時(shí),創(chuàng)新性地在氟化物玻璃陶瓷表面制備了Ti O₂涂層,提高了其易潔性、抗菌性等表面性質(zhì),達(dá)到了氟化物玻璃陶瓷整體性能優(yōu)化的目的。本論文主要工作和結(jié)論如下:首先,通過(guò)正交實(shí)驗(yàn)探究了Ba O、Ca O、K₂O含量對(duì)熔化溫度、制品白度和抗熱震性能的影響。Ba O、Ca O取代Na₂O會(huì)提高熔化溫度,降低制品白度,提高抗熱震性;K₂O取代Na₂O會(huì)提高熔化溫度、制品白度和抗熱震性。當(dāng)Ba O、Ca O、K

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【部分圖文】：

TiO2光催化反應(yīng)原理圖[72]

第一章緒論11應(yīng)見(jiàn)式(1-8)-(1-10)。h+VB+H2O→·OH+H+(1-5)e-CB+O2→·O2-(1-6)·O2-+H+→·OOH(1-7)·OH+污染物→CO2+H2O(1-8)·O2-+污染物→CO2+H2O(1-9)·OOH+污染物→CO2+H2O(1-10)1.3.2TiO2的光致親水性原理TiO2的光致親水性是指負(fù)載TiO2的材料經(jīng)紫外光照射后，水滴與其表面的接觸角可小于5°。對(duì)于TiO2的光致親水性，有三種機(jī)制解釋?zhuān)ü庵卤砻嫒毕莸漠a(chǎn)生，光致表面羥基團(tuán)的重構(gòu)和光催化表面有機(jī)物的降解[82-84]。其中最先提出也是最為廣泛接受的機(jī)制是光致表面缺陷的產(chǎn)生，即在紫外光的照射下，表面形成氧空位缺陷，使負(fù)載TiO2的材料具備超親水性，其機(jī)理見(jiàn)圖1-2。圖1-2光致親水性示意圖[72]Fig.1-2Schematicrepresentationofphoto-inducedhydrophilicity[72]通過(guò)顯微摩擦力研究發(fā)現(xiàn)，紫外光照射下的TiO2表面結(jié)構(gòu)發(fā)生了改變，影響了固液

第二章實(shí)驗(yàn)內(nèi)容19圖2-1氟化物玻璃陶瓷的制備流程Fig.2-1Thepreparationprocessoffluorideglass-ceramic制備氟化物玻璃陶瓷具體步驟為：將設(shè)計(jì)好的配方準(zhǔn)確稱(chēng)量后，放入球磨罐中，利用行星式球磨機(jī)將配料混合均勻，然后倒入剛玉坩堝并放入電爐中，隨電爐升溫至設(shè)定溫度保溫1小時(shí)，而后將一部分熔融的玻璃液倒入預(yù)熱好的石墨模具中，進(jìn)行退火處理，獲得的塊狀樣品用于強(qiáng)度、熱膨脹系數(shù)等測(cè)試；另一部分倒入水中淬冷，球磨烘干，獲得的粉狀樣品用于燒結(jié)溫度和熔融溫度測(cè)試。2.4測(cè)試與表征2.4.1X射線衍射分析X射線衍射（XRD）可用來(lái)分析材料的物相組成、物相含量、晶粒尺寸、微觀應(yīng)力應(yīng)變等。一束X射線照射到物體表面，當(dāng)入射角θ和X射線波長(zhǎng)λ及晶面間距d滿足布拉格方程時(shí)，會(huì)發(fā)生衍射現(xiàn)象，不同的晶體具有不同結(jié)構(gòu)，因此產(chǎn)生的衍射花樣各不相同，可根據(jù)衍射峰的位置和相對(duì)強(qiáng)度確定材料中含有的物相以及對(duì)應(yīng)物相的相對(duì)含量，根據(jù)衍射峰的峰形及寬化程度測(cè)定晶粒尺寸等。此測(cè)試手段具有制樣簡(jiǎn)單、實(shí)驗(yàn)結(jié)果穩(wěn)定性好、樣品可回收等特點(diǎn)。本實(shí)驗(yàn)使用X’pertPRO型（荷蘭PANalytical）X射線衍射儀對(duì)氟化物玻璃陶瓷中的物相進(jìn)行定性和定量分析，測(cè)試條件為：CuKα靶，X射線波長(zhǎng)λ為0.154nm，掃描范圍5°-90°，管壓40kV，管流40mA，定性分析時(shí)步長(zhǎng)0.033°，停留時(shí)間10s，定量分析時(shí)步長(zhǎng)0.016°，停留時(shí)間40s。慢掃譜圖使用Maud軟件精修處理，確定晶相含量。精修要求：Rw(%)＜10，sig＜1.5。

【參考文獻(xiàn)】：
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