發(fā)布時間：2021-05-20 00:54

　　相比原子層沉積（ALD）,等離子體增強化學氣相沉積技術（PECVD）在氧化鋁鈍化膜制備方面沉積速率快。利用板式PECVD在電池背表面制備氧化鋁鈍化膜,膜厚控制在7nm～10nm,折射率大于1.63,雙面氧化鋁鈍化少子壽命可達3ms,表面復合速率低至3cm/s。結合背激光開槽開孔率的增大,應用到量產鈍化發(fā)射極背接觸（PERC）晶硅電池,效率可達22.3%。 

【文章來源】：山西化工. 2020,40(01)

【文章頁數】：3 頁

【文章目錄】：
引言
1 實驗部分
2 實驗結果及分析
    2.1 表面鈍化質量
    2.2 激光開槽調優(yōu)
    2.3 PERC電池應用
3 結論



本文編號：3196764