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磁控濺射法制備氧化鎢薄膜的膜層微觀結(jié)構(gòu)對電致變色性能的影響

發(fā)布時間:2021-01-16 04:23
  利用磁控濺射法,在不同工作壓強(qiáng)下制備了氧化鎢(WO3)薄膜,研究了工作壓強(qiáng)對WO3膜層微觀結(jié)構(gòu)的調(diào)控作用,并研究了WO3膜層微觀結(jié)構(gòu)對其電致變色性能的影響。研究結(jié)果表明,制備的WO3薄膜屬于非晶相,表面呈峰狀結(jié)構(gòu);隨著工作壓強(qiáng)的增大,WO3薄膜膜層微觀結(jié)構(gòu)變疏松,電致變色響應(yīng)時間和循環(huán)壽命均減短;在最佳膜層微觀結(jié)構(gòu)下,WO3薄膜光學(xué)密度可達(dá)0.64,循環(huán)壽命達(dá)1500周。 

【文章來源】:激光與光電子學(xué)進(jìn)展. 2017,54(11)北大核心

【文章頁數(shù)】:8 頁

【部分圖文】:

磁控濺射法制備氧化鎢薄膜的膜層微觀結(jié)構(gòu)對電致變色性能的影響


圖3不同工作壓強(qiáng)下WO3膜的AFM形貌Fig.3AFMmorphologiesofWO3filmsunderdifferentworkingpressures

形貌,工作壓強(qiáng),形貌,膜層


54,113103(2017)激光與光電子學(xué)進(jìn)展www.opticsjournal.net圖3不同工作壓強(qiáng)下WO3膜的AFM形貌Fig.3AFMmorphologiesofWO3filmsunderdifferentworkingpressures圖4不同工作壓強(qiáng)下WO3膜的SEM形貌Fig.4SEMmorphologiesofWO3filmsunderdifferentworkingpressures不同工作壓強(qiáng)下鍍在ITO導(dǎo)電玻璃上的氧化鎢薄膜的XRD圖譜如圖5所示,可以看到,曲線c、d、e的出峰位置與ITO晶型標(biāo)準(zhǔn)曲線a的特征峰相對應(yīng),沒有出現(xiàn)結(jié)晶型氧化鎢的特征峰,因此,不同工作壓強(qiáng)下制備的氧化鎢薄膜是非晶態(tài),與文獻(xiàn)[11]的報道相符。圖5不同工作壓強(qiáng)下的WO3及ITO的XRD譜Fig.5XRDspectraofWO3andITOunderdifferentworkingpressures3.3不同工作壓強(qiáng)下的氧化鎢薄膜的孔隙率及光學(xué)性質(zhì)進(jìn)行濺射鍍膜時,工作壓強(qiáng)的大小會直接影響鍍膜的沉積速率和膜層的結(jié)構(gòu)。不同工作壓強(qiáng)下制備的氧化鎢膜層的孔隙率如表4所示,可以看出,工作壓強(qiáng)越大,氧化鎢膜的折射率(在波長632.8nm處測得)越小,折射率主要與膜層的化學(xué)配比、結(jié)晶程度及膜層微觀結(jié)構(gòu)有關(guān)。根據(jù)3.1節(jié)的氧氬體積流量比討論和3.2節(jié)的XRD測試結(jié)果可知,不同工作壓強(qiáng)下的WO3膜層的化學(xué)配比和結(jié)晶程度相同;根據(jù)3.2節(jié)的AFM和SEM分析結(jié)果可知,工作壓強(qiáng)影響膜層微觀結(jié)構(gòu)的疏松程度,因此實(shí)驗(yàn)中折

工作壓強(qiáng),膜層,氧化鎢薄膜,氧化鎢


17)激光與光電子學(xué)進(jìn)展www.opticsjournal.net圖3不同工作壓強(qiáng)下WO3膜的AFM形貌Fig.3AFMmorphologiesofWO3filmsunderdifferentworkingpressures圖4不同工作壓強(qiáng)下WO3膜的SEM形貌Fig.4SEMmorphologiesofWO3filmsunderdifferentworkingpressures不同工作壓強(qiáng)下鍍在ITO導(dǎo)電玻璃上的氧化鎢薄膜的XRD圖譜如圖5所示,可以看到,曲線c、d、e的出峰位置與ITO晶型標(biāo)準(zhǔn)曲線a的特征峰相對應(yīng),沒有出現(xiàn)結(jié)晶型氧化鎢的特征峰,因此,不同工作壓強(qiáng)下制備的氧化鎢薄膜是非晶態(tài),與文獻(xiàn)[11]的報道相符。圖5不同工作壓強(qiáng)下的WO3及ITO的XRD譜Fig.5XRDspectraofWO3andITOunderdifferentworkingpressures3.3不同工作壓強(qiáng)下的氧化鎢薄膜的孔隙率及光學(xué)性質(zhì)進(jìn)行濺射鍍膜時,工作壓強(qiáng)的大小會直接影響鍍膜的沉積速率和膜層的結(jié)構(gòu)。不同工作壓強(qiáng)下制備的氧化鎢膜層的孔隙率如表4所示,可以看出,工作壓強(qiáng)越大,氧化鎢膜的折射率(在波長632.8nm處測得)越小,折射率主要與膜層的化學(xué)配比、結(jié)晶程度及膜層微觀結(jié)構(gòu)有關(guān)。根據(jù)3.1節(jié)的氧氬體積流量比討論和3.2節(jié)的XRD測試結(jié)果可知,不同工作壓強(qiáng)下的WO3膜層的化學(xué)配比和結(jié)晶程度相同;根據(jù)3.2節(jié)的AFM和SEM分析結(jié)果可知,工作壓強(qiáng)影響膜層微觀結(jié)構(gòu)的疏松程度,因此實(shí)驗(yàn)中折射率主要與膜層微觀結(jié)構(gòu)的疏

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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[4]磁控濺射功率對光學(xué)氧化釩薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響[J]. 張建鵬,黃美東,李園,楊明敏,張鵬宇.  中國激光. 2015(08)
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本文編號:2980148

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