電沉積鐵和鎳鐵合金工藝由于設備簡單、操作方便,已經(jīng)成熟地應用于表面裝飾、涂層修復中。近年來隨著IC產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展,電沉積鐵和鎳鐵工藝在IC產(chǎn)業(yè)中也有著越來越多的應用。通過常規(guī)電沉積工藝獲得的金屬鍍層由于表面易磨損、鍍層易腐蝕等缺點,造成了資源大量的浪費。在制備納米材料的眾多方法中,水熱技術(shù)制備工藝簡單高效,產(chǎn)物結(jié)晶度高且晶粒尺寸易于控制。因此在本研究工作中,首次將水熱技術(shù)與電沉積工藝結(jié)合,通過在水熱體系中優(yōu)化電沉積過程中晶粒的生長,來獲得耐腐蝕性能優(yōu)良的鐵和鎳鐵合金。本論文研究的主要內(nèi)容是在水熱條件下分別采用直流電沉積和雙脈沖電沉積技術(shù)電沉積鐵以及鎳鐵合金,對電解液及鍍層進行形貌、成分以及電化學性能等測試（SEM,XRD,EDS,EIS,LSV）,并與傳統(tǒng)條件下得到的鍍層性能進行比較,獲得水熱條件與鍍層性能的影響規(guī)律,并得到最佳水熱電沉積工藝參數(shù)。通過實驗發(fā)現(xiàn),水熱條件下獲得的鍍層在各方面的性能有顯著提高,尤其是抗腐蝕性能,其中水熱雙脈沖技術(shù)對于鍍層性能提高尤為明顯。在水熱溫度為120℃,直流電流密度為150mA·cm^-2的條件下電沉積20min后得到的鐵鍍層形貌... 

【文章來源】：電子科技大學四川省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】：80 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

芯片結(jié)構(gòu)圖

圖 1-2 磁控濺射系統(tǒng)示意圖鍍法法是一種常用的真空鍍膜技術(shù)，常用的方法有電阻激光氣相沉積。其中電阻加熱蒸發(fā)法常用于鋁、鎂蒸發(fā)鍍層性能相對較好，但采用雙源蒸發(fā)時鍍層防了雜質(zhì)的污染，并且可用于熔點高的材料，有著廣為1.7%的鋁鐵合金有著優(yōu)良的拉升強度，其強度可積法的沉積速率高，并且不受限于靶材種類，用這

圖 1-2 磁控濺射系統(tǒng)示意圖空蒸鍍法鍍法是一種常用的真空鍍膜技術(shù)，常用的方法有電阻加熱沖激光氣相沉積。其中電阻加熱蒸發(fā)法常用于鋁、鎂等熔源蒸發(fā)鍍層性能相對較好，但采用雙源蒸發(fā)時鍍層防腐性免了雜質(zhì)的污染，并且可用于熔點高的材料，有著廣泛應鐵量為1.7%的鋁鐵合金有著優(yōu)良的拉升強度，其強度可到相沉積法的沉積速率高，并且不受限于靶材種類，用這種


本文編號：2919141