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鈷及鈷基合金氮化物的制備及其電化學析氫性能研究

發(fā)布時間:2020-06-20 04:37
【摘要】:能源危機和環(huán)境危機是人類社會發(fā)展面臨的亟待解決的重大問題,開發(fā)新型可再生清潔能源勢在必行。在太陽能、風能、地熱能等新型可再生清潔能源之中,氫能,以其極高的能量密度、高效的熱轉(zhuǎn)換效率、清潔無污染、同時原料水來源廣泛等優(yōu)勢成為二十一世紀最具潛力的清潔能源之一。在各種制氫途徑中,電解水產(chǎn)氫具有環(huán)保、經(jīng)濟、可持續(xù)等特點,被認為是規(guī);⒖沙掷m(xù)的產(chǎn)氫途徑。此外,太陽能、風能等新能源發(fā)電技術(shù)的迅猛發(fā)展大幅降低了用電成本,從而極大促進電解水產(chǎn)氫技術(shù)的發(fā)展。然而,緩慢的動力學過程及其伴隨而來的巨大能量損耗并阻礙了電解水的效率,促使人們探索高效、穩(wěn)健的析氫電催化劑。貴金屬鉑及其合金能完美地符合高效催化劑的要求,被認為是目前最高效的析氫催化劑。但是,由于鉑存在全球儲量低、價格昂貴等問題,鉑基析氫催化劑的規(guī);瘧(yīng)用和推廣受到嚴峻的挑戰(zhàn)。因此,亟待開發(fā)高效、全球儲量豐富的非貴金屬析氫催化劑,包括過渡金屬氮化物、磷化物、硫化物、硒化物和碳化物。在過渡金屬化合物中,鈷基化合物具有地球儲量高(金屬鈷)、電催化性能優(yōu)異等優(yōu)點,被視為一類潛在的析氫催化劑。本論文選取儲量豐富且具有電催化析氫潛力的鈷基化合物為研究對象,針對雙元鈷基化合物組分單一,難以獲得理想狀態(tài)的電子結(jié)構(gòu)等問題,通過對鈷基化合物的摻雜來獲得高效的電催化析氫催化劑。在此基礎(chǔ)上,結(jié)合X射線光電子能譜、X射線近邊吸收結(jié)構(gòu)、真空紫外光電子能譜和理論計算等方法,分別對金屬和非金屬摻雜對鈷基化合物的改性機理進行深入研究,從而理解并闡釋摻雜對鈷基化合物的調(diào)控機制。并從原子尺度上理解電催化劑的制約因素和調(diào)控策略,為構(gòu)筑高效的鈷基化合物電催化析氫催化劑及其它過渡金屬化合物電催化劑提供指導。本論文的研究內(nèi)容主要包括以下兩個方面:研究內(nèi)容一:由于Co4N表現(xiàn)出良好的電催化析氧性能,從而被廣泛報道為電催化析氧催化劑。然而,其不利的d帶中心位置使得Co4N表現(xiàn)出較差的電催化析氫性能。本論文發(fā)現(xiàn)過渡金屬摻雜能有效調(diào)控Co4N的d帶中心位置,從而賦予Co4N優(yōu)異的堿性電催化析氧性能。電化學測試結(jié)果表明,V-Co4NNS在在10 mA cm-2電流密度下的過電勢為37 mV,其性能遠遠高于Co4N并接近Pt/C催化劑。結(jié)合X射線光電子能譜、X射線近邊吸收結(jié)構(gòu)、真空紫外光電子能譜和理論計算等研究一致表明,其析氫性能的提升歸屬于V摻雜降低了 Co4N的d帶中心,從而促進氫脫附過程。在這一基礎(chǔ)上,我們還同時在理論和實驗兩方面證實這種d帶中心調(diào)控機制同樣適應(yīng)于W-Co4N和Mo-Co4N。本論文提出的通過過渡金屬摻雜調(diào)控d帶中心的調(diào)控策略為構(gòu)筑高效電催化析氧催化劑提供了很好的指導。研究內(nèi)容二:過渡金屬磷化物對電催化析氧表現(xiàn)出高催化活性。然而富磷磷化物的電催化析氧活性難以達到理論預(yù)期值。更為重要的是,制約富磷磷化物的電催化析氧活性的內(nèi)在因素還不清楚。針對這一問題,本章選取富磷CoP2為模型,通過密度泛函理論計算探究富磷CoP2的電催化活性的制約因素。密度泛函理論計算結(jié)果表明,富磷CoP2由于P含量較高,表現(xiàn)出Pi和P2原子兩種微觀環(huán)境。而P原子微觀環(huán)境差異導致了富磷CoP2活性位點密度較低,從而影響了其電催化析氧活性。我們通過N摻雜有效提高了 CoP2的電催化析氧活性。N-CoP2-350在10 mA cm-2電流密度下的過電勢為37 mV并具有超過30h的長期穩(wěn)定性。X射線光電子能譜、X射線近邊吸收結(jié)構(gòu)、真空紫外光電子能譜和理論計算等結(jié)果表明,N-CoP2-350卓越的電催化析氧性能歸屬于強P-N相互作用削弱了 Co-P鍵,這不僅能增加活性位點的數(shù)目,而且能有效優(yōu)化P1原子的氫吸脫附自由能。這工作為富磷過渡金屬磷化物的改性提供了新的解決途徑。
【學位授予單位】:中南林業(yè)科技大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2018
【分類號】:O643.36;TQ116.2
【圖文】:

納米線,低倍,原位生長,鍛燒


C04N邋NS.邋(e)邋Low邋resolution邋TEM邋image邋and邋(f)邋HRTEM邋image邋of邋V-C04N邋NS.邋(g)逡逑HAADF-STEM邋image邋and邋the邋element邋mapping邋images邋of邋Co,邋V,邋and邋N.逡逑如圖2.丨3所示,本文通過兩步法制備NB摻雜(:04^以-(:04>])納米片陣逡逑列。首先,通過水熱法在泡沫鎳基底上原位生長V摻雜Co(OH)2納米線陣逡逑列|65]。并將所獲得的前驅(qū)體納米線陣列在氨氣氛圍卜>邋鍛燒

透射電鏡,比例,納米,納米線


dopant邋ratio邋of邋2%邋and邋10%邋(V-C04N-0.1),邋respectively.逡逑掃描電鏡(SEM)、透射電鏡(TEM)以及X射線衍射儀(XRD)用于表征逡逑所制備樣品的形貌和結(jié)構(gòu)信息。圖2.1邋b和2.2邋a-c給出了不同摻雜比例下逡逑V-Co(OH)2納米線陣列的SEM圖,可以觀察到納米線陣列稠密且均勻地生逡逑長在泡沫鎳上。圖2.1邋c和2.2邋d-f給出了氮化后樣品的SEM圖。有趣的是,逡逑氮化后的樣品在光滑的前驅(qū)體納米線表面上原位生長了納米片。V-CmN逡逑的TEM圖(圖2.1邋e)進一步揭示納米片在納米線的表面原位生長從而形逡逑成三維多孔結(jié)構(gòu)。需要指出的是,這種原位生長于納米線上的納米片將逡逑促進活性位點的暴露。對比不同比例下的V-C04N,發(fā)現(xiàn)V將促進納米片逡逑的生長。XRD用于表征不同摻雜比例的V-C04N和純CcmN納米片的晶體結(jié)逡逑構(gòu)(圖Id和3a)。觀察到Co4N的衍射峰位于44.2,邋51.5和75.9,分別對應(yīng)逡逑于立方C04N的(1]])、(200)和(220)晶面。不同比例的V摻雜后沒有觀察到逡逑新的衍射峰,這說明V摻雜不改變C04N的晶體結(jié)構(gòu)。V-C04N納米片的高逡逑分辨TEM圖用于進一步觀察晶體結(jié)構(gòu)。如圖2.1邋f所示,V-C04N納米片的逡逑18

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本文編號:2721881


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