鈷及鈷基合金氮化物的制備及其電化學析氫性能研究
【學位授予單位】:中南林業(yè)科技大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2018
【分類號】:O643.36;TQ116.2
【圖文】:
C04N邋NS.邋(e)邋Low邋resolution邋TEM邋image邋and邋(f)邋HRTEM邋image邋of邋V-C04N邋NS.邋(g)逡逑HAADF-STEM邋image邋and邋the邋element邋mapping邋images邋of邋Co,邋V,邋and邋N.逡逑如圖2.丨3所示,本文通過兩步法制備NB摻雜(:04^以-(:04>])納米片陣逡逑列。首先,通過水熱法在泡沫鎳基底上原位生長V摻雜Co(OH)2納米線陣逡逑列|65]。并將所獲得的前驅(qū)體納米線陣列在氨氣氛圍卜>邋鍛燒
dopant邋ratio邋of邋2%邋and邋10%邋(V-C04N-0.1),邋respectively.逡逑掃描電鏡(SEM)、透射電鏡(TEM)以及X射線衍射儀(XRD)用于表征逡逑所制備樣品的形貌和結(jié)構(gòu)信息。圖2.1邋b和2.2邋a-c給出了不同摻雜比例下逡逑V-Co(OH)2納米線陣列的SEM圖,可以觀察到納米線陣列稠密且均勻地生逡逑長在泡沫鎳上。圖2.1邋c和2.2邋d-f給出了氮化后樣品的SEM圖。有趣的是,逡逑氮化后的樣品在光滑的前驅(qū)體納米線表面上原位生長了納米片。V-CmN逡逑的TEM圖(圖2.1邋e)進一步揭示納米片在納米線的表面原位生長從而形逡逑成三維多孔結(jié)構(gòu)。需要指出的是,這種原位生長于納米線上的納米片將逡逑促進活性位點的暴露。對比不同比例下的V-C04N,發(fā)現(xiàn)V將促進納米片逡逑的生長。XRD用于表征不同摻雜比例的V-C04N和純CcmN納米片的晶體結(jié)逡逑構(gòu)(圖Id和3a)。觀察到Co4N的衍射峰位于44.2,邋51.5和75.9,分別對應(yīng)逡逑于立方C04N的(1]])、(200)和(220)晶面。不同比例的V摻雜后沒有觀察到逡逑新的衍射峰,這說明V摻雜不改變C04N的晶體結(jié)構(gòu)。V-C04N納米片的高逡逑分辨TEM圖用于進一步觀察晶體結(jié)構(gòu)。如圖2.1邋f所示,V-C04N納米片的逡逑18
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