石墨烯電極制備及其器件應用研究
[Abstract]:Graphene is a two-dimensional monoatomic crystal formed by sp2 hybrid orbitals arranged in honeycomb lattice. Because of its unique structure and many excellent properties, graphene has a broad application prospect in many fields. In this paper, the properties of graphene thin films prepared by chemical vapor deposition (CVD) were studied. Firstly, the related devices were prepared by combining graphene films with optoelectronic devices, and then the field emission properties of graphene films were studied based on field emission theory. A method to improve the field emission performance is also proposed. The main work of this thesis is as follows: firstly, graphene thin films were prepared by chemical vapor deposition, and then the graphene thin films were applied to photoelectron devices (organic light-emitting diodes, organic light-emitting diodes). There are field effect transistors, organic solar cells). The influence of the thickness of graphene film on the performance of optoelectronic devices was studied by changing the transfer times and controlling the thickness of graphene film. The experimental results show that the effect of graphene film thickness on the performance of photoelectron devices is obvious, which is mainly due to the change of surface resistance and transmittance of graphene film with the increase of graphene film thickness. The control of these parameters has a direct effect on the performance of optoelectronic devices. Then, the effect of preparation parameters on the field emission properties of graphene thin films was studied based on the process parameters of chemical vapor deposition. The experimental results show that the effect of deposition time on the field emission performance is obvious. Graphene with deposition time of 5 min exhibits the best field emission performance, with a starting electric field of 9.8 V / m and a threshold electric field of 13 V / m. The reason is that the deposition time is not sufficient to grow into continuous graphene films, and the sample contains a lot of "graphene island" edge emission region, that is, the increase of field emission point leads to the improvement of field emission performance. Finally, the methods to improve the field emission properties of graphene films are introduced. Firstly, the field emission property of graphene film is improved by laser etching of copper foil substrate. The surface of copper foil was etched by laser and then graphene film was grown on the copper foil. The field emission properties of graphene thin films prepared by this method have been improved to some extent. The opening electric field of graphene thin films with deposition time of 5 min has been reduced from 9.8 V / m to 8.8 V / m. The threshold electric field decreased from 13 V / m to 12.2 V / m, and the field enhancement factor increased from 640 to 1757. The other is to change the field emission mode, that is, to study the edge field emission performance of graphene film. The graphene was curled into a cylindrical shape by using the flexibility of copper foil substrate and the field emission measurements were carried out. The test results show that the field emission performance is greatly improved. The opening electric field and the threshold electric field are 3.4 V / m and 5.8 V / m, respectively, and the field enhancement factor is as high as 5068. The maximum field emission current density is also increased by an order of magnitude. To sum up, graphene prepared by CVD method is used as electrode in this work, and it is applied to various optoelectronic devices and its photoelectric or electrical properties are studied, which lays a foundation for the development of high performance devices in the future.
【學位授予單位】:電子科技大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2017
【分類號】:TQ127.11;TM914.4;TN386;TN383.1
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,本文編號:2347026
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