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電沉積制備鈷-鉬合金薄膜及其耐蝕性的研究

發(fā)布時間:2018-10-11 09:04
【摘要】:采用電沉積方法制備了鈷-鉬合金薄膜,并研究了鉬酸鈉的濃度對薄膜耐蝕性的影響。研究發(fā)現(xiàn),鈷-鉬合金薄膜具有一種典型的Co3Mo四面體結(jié)構(gòu)。適當提高鍍液中鉬酸鈉的濃度,有利于提高薄膜中鉬的質(zhì)量分數(shù)及薄膜的耐蝕性。但當鍍液中鉬酸鈉的濃度過高時,會阻礙鈷的電沉積,促進析氫過程,MoO2的析出使得薄膜表面的粗糙度和孔隙率增大,薄膜的耐蝕性變差。
[Abstract]:Co-Mo alloy films were prepared by electrodeposition and the effect of sodium molybdate concentration on the corrosion resistance of the films was studied. It is found that the Co-Mo alloy film has a typical Co3Mo tetrahedron structure. A proper increase in the concentration of sodium molybdate in the bath is beneficial to increase the mass fraction of molybdenum in the film and the corrosion resistance of the film. However, when the concentration of sodium molybdate in the plating solution is too high, the electrodeposition of cobalt will be hindered and the process of hydrogen evolution will be promoted. The surface roughness and porosity of the films will increase with the precipitation of MoO2, and the corrosion resistance of the films will become worse.
【作者單位】: 佛山科學技術(shù)學院環(huán)境與化學工程學院;佛山科學技術(shù)學院物理與光電學院;
【基金】:廣東省創(chuàng)新強校工程高校特色創(chuàng)新項目(2015xts03) 佛山市科技計劃項目(2016AB000111)
【分類號】:TQ153.2

【參考文獻】

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【共引文獻】

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本文編號:2263623

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