本文選題：無氰鍍鎘 + 故障處理��； 參考：《電鍍與涂飾》2017年05期

【摘要】：描述了新型氯化鉀無氰鍍鎘出現(xiàn)的幾例故障和應對措施。配位劑含量過高時,鍍液容易渾濁;氯化鎘含量過低時,低電流密度區(qū)沉積速率太慢;鍍液pH偏低時低電流密度區(qū)鍍層粗糙,偏高則高電流密度區(qū)鍍層粗糙;添加劑的分解產物過多會導致鍍層粗糙,需定期用活性炭處理鍍液。根據(jù)生產經(jīng)驗,將部分工藝參數(shù)調整為:氯化鎘25~35g/L,配位劑90~140g/L,氯化鉀140~180g/L,鍍液pH=6.5~7.5。氯化鎘與配位劑的濃度范圍擴大明顯提高了工藝的可操作性。
[Abstract]:Several faults and countermeasures of new type potassium chloride without cyanide cadmium plating are described. When the concentration of coordination agent is too high, the bath is easy to turbidity, the deposition rate of low current density is too slow when the content of cadmium chloride is too low, the coating of low current density is rough when pH is low, and the coating of high current density is rough. Too much decomposition product of additives will lead to rough coating, need to treat the bath with activated carbon on a regular basis. According to the production experience, some technological parameters were adjusted as follows: cadmium chloride 25 ~ 35 g / L, coordination agent 90 ~ 140 g / L, potassium chloride 140 ~ 180 g / L, bath pH 6.5 ~ 7.5. The concentration range of cadmium chloride and coordination agent was enlarged and the operation of the process was improved obviously.
【作者單位】： 廣州超邦化工有限公司;貴州華烽電器有限公司;
【分類號】：TQ153.17

【參考文獻】

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本文編號：2023743