本文選題：石墨烯 + 氫碘酸��； 參考：《化工新型材料》2017年02期

【摘要】：通過水合肼和氫碘酸分別對氧化石墨烯薄膜進行還原處理,制備出不同形態(tài)的石墨烯材料,并采用XRD、FT-IR、SEM及TEM等對實驗樣品進行結構表征。結果表明:氧化石墨烯薄膜在水合肼中由于完全分散導致還原更加徹底,而在氫碘酸中由于依舊保持薄膜狀導致還原程度較低,但經(jīng)由氫碘酸還原后保持薄膜狀的石墨烯因為結構完整、致密度高從而具有更好的導電性能,方塊電阻最低為10Ω/□。
[Abstract]:Graphene oxide films were reduced by hydrazine hydrate and hydroiodate respectively to prepare graphene materials with different forms. The structure of the samples was characterized by XRDD-FT-IRU SEM and TEM. The results show that the reduction of graphene oxide films in hydrazine hydrate is more complete due to its complete dispersion, while the reduction degree is lower in hydroiodic acid because of its still thin film shape. However, graphene with thin film after reduction by hydroiodate has better conductivity because of its complete structure and high density. The lowest square resistance is 10 惟 / -.
【作者單位】： 湖北工業(yè)大學材料科學與工程學院;
【分類號】：TQ127.11

【參考文獻】

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本文編號：1981616