雙氦離子化氣相色譜儀分析四氟化硅氣體中微量雜質(zhì)
本文選題:四氟化硅 + 氟代烷。 參考:《硅酸鹽通報》2017年06期
【摘要】:介紹了一種利用雙通道氦離子化氣相色譜儀(PDHID),分析四氟化硅中微量硅烷、磷烷、氟代烷、C2~C3碳氫化合物以及常見氣體雜質(zhì)的方法。由于四氟化硅具有很強的腐蝕性,在對其進行分析時,利用閥切割系統(tǒng)將大量的四氟化硅主要成分切割,及時地將四氟化硅反吹出去,使其不進入檢測器系統(tǒng)。經(jīng)過將四氟化硅氣體進樣檢測驗證,該方法能夠有效測定四氟化硅氣體中多種微量雜質(zhì)。
[Abstract]:A method for the analysis of trace amounts of silane, phosphane, Fluoroalkane, C2~C3 hydrocarbons and common gas impurities in four fluoridated silicon fluoride (PDHID) is introduced. Because of the strong corrosiveness of four silicon fluoride, the main components of a large number of four silicon fluoride are cut by the valve cutting system. Cut, the four silicon fluoride is blown out in time so that it does not enter the detector system. The method can effectively determine a variety of trace impurities in the four silicon fluoride gas by testing the four fluorinated silicon gas samples.
【作者單位】: 貴州省產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗院;貴州大學化學與化工學院;
【基金】:國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局科技計劃項目(2015QK194) 貴州省科技計劃(黔科合SY字[2014]3068號)
【分類號】:O657.71;TQ127.2
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,本文編號:1796546
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