本文關(guān)鍵詞：軟性粒子拋光石英玻璃的材料去除機(jī)理

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【摘要】：基于阿倫尼烏斯原理和分子振動(dòng)理論,分析了軟性拋光粒子、石英玻璃和拋光墊之間的彈性與超彈性接觸,研究了用軟性粒子拋光石英玻璃的材料去除機(jī)理�；诶碚撗芯窟M(jìn)行了大量的拋光試驗(yàn),建立了軟性粒子拋光石英玻璃的材料去除率模型。理論計(jì)算與試驗(yàn)結(jié)果表明:在石英玻璃化學(xué)機(jī)械拋光中,材料的去除主要由拋光粒子與石英玻璃的界面摩擦化學(xué)腐蝕作用來(lái)實(shí)現(xiàn);單個(gè)拋光粒子壓入石英玻璃的深度約為0.05nm,且材料去除為分子量級(jí);石英玻璃表層的分子更易獲得足夠振動(dòng)能量而發(fā)生化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)材料的去除;拋光壓力、拋光液中化學(xué)試劑種類和濃度以及石英玻璃試件與拋光盤的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度決定了軟性粒子拋光石英玻璃的材料去除率大小。
【作者單位】： 中南大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院;中南大學(xué)高性能復(fù)雜制造國(guó)家重點(diǎn)試驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 石英玻璃 化學(xué)機(jī)械拋光 軟性拋光粒子 材料去除機(jī)理 去除速率模型
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金面上資助項(xiàng)目(No.51275534) 湖南省自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(No.2015JJ2153)
【分類號(hào)】：TQ171.731
【正文快照】： 1引言隨著光學(xué)技術(shù)的發(fā)展,光學(xué)材料的應(yīng)用日益廣泛,對(duì)光學(xué)元件表面加工質(zhì)量的要求也越來(lái)越高[1]。作為光學(xué)元件不可或缺的原材料,石英玻璃的加工去除機(jī)理研究具有重要意義。目前,作為石英加工的常用方法,化學(xué)機(jī)械拋光(Chemico-Mechanical Polishing,CMP)是唯一可以實(shí)現(xiàn)硬脆材

【相似文獻(xiàn)】

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