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H 2 O 2 濃度對(duì)等離子體電化學(xué)法制備銀納米顆粒的影響

發(fā)布時(shí)間:2025-02-11 20:45
   利用等離子體電化學(xué)法制備銀納米顆粒,通過局域等離子體共振(Localized Surface Plasmon Resonance,LSPR)吸收光譜實(shí)時(shí)監(jiān)測銀納米顆粒(Ag Nanoparticles,Ag-NPs)的生長過程,驗(yàn)證了在不同放電電流條件下放電等離子體與溶液相互作用產(chǎn)生的過氧化氫(H2O2)對(duì)已生成的Ag-NPs的氧化刻蝕作用,進(jìn)一步地觀察了反應(yīng)結(jié)束后加入不同濃度的H2O2對(duì)Ag-NPs的氧化刻蝕程度.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:當(dāng)放電電流較大時(shí),溶液中產(chǎn)生的H2O2含量越多,會(huì)氧化溶液中生成的Ag-NPs,表現(xiàn)為LSPR吸收光譜的吸收峰強(qiáng)度下降;在放電結(jié)束后,加入的H2O2濃度越大,Ag-NPs的氧化刻蝕現(xiàn)象越明顯,表現(xiàn)為LSPR吸收光譜的吸收峰強(qiáng)度下降速率越大.探討反應(yīng)體系中的H2O2濃度問題,可以為更好地使用此方法制備其他金屬納米顆粒提供思路.

【文章頁數(shù)】:5 頁

【文章目錄】:
1 實(shí) 驗(yàn)
    1.1 等離子體電化學(xué)法制備Ag-NPs
    2.2 實(shí)驗(yàn)裝置及試劑
2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果及分析
    2.1 不同電流條件下溶液中生成的H2O2對(duì)AgNO3的氧化作用
    2.2 放電結(jié)束后加入的H2O2濃度對(duì)生成Ag-NPs的影響
3 結(jié) 論



本文編號(hào):4033829

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