4,4'-二氨基二苯醚分子印跡聚合物/聚4,4'-二氨基二苯醚的電化學(xué)合成及其吸波性能研究
發(fā)布時間:2024-04-11 01:18
本文采用二次電聚合法,在石墨烯修飾鉛筆芯電極(G-PEC)表面制備出4,4’-二氨基二苯醚分子印跡聚合物復(fù)合聚4,4’-二氨基二苯醚(4,4’-ODL-MIP/P-4,4’-ODL)新型電磁材料,考察了電極有效導(dǎo)電長度、石墨烯濃度、緩沖液pH、4,4’-二氨基二苯醚與功能單體丙烯酰胺的濃度及其濃度比、掃描電位范圍、掃描圈數(shù)、掃描速率、洗脫時間等各種條件對復(fù)合材料荷電量的影響。矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀測試結(jié)果顯示,所合成的復(fù)合材料在12. 56GHz處出現(xiàn)-10. 57dB的反射損耗,有效電磁波吸收率達(dá)到90%;而單一的4,4’-ODL-MIP和石墨烯反射損耗均高于-10dB,有效電磁波吸收率分別僅約為68%和60%,因而復(fù)合材料具備良好的吸波性。
【文章頁數(shù)】:8 頁
【文章目錄】:
1 實驗部分
1.1 試劑與儀器
1.2 電極的制備
1.2.1 G-PEC的制備
1.2.2 4,4'-ODL-MIP-G-PEC的制備
1.2.3 4,4'-ODL-MIP/P-4,4'-ODL的制備
1.3 4,4'-ODL-MIP/P-4,4'-ODL復(fù)合材料荷電量測試
2 結(jié)果與討論
2.1 制備條件的優(yōu)化
2.2 電聚合制備4,4'-ODL-MIP/P-4,4'-ODL的機(jī)理
2.2.1 4,4'-ODL-MIP的制備
2.2.2 電聚合制備P-4,4'-ODL機(jī)理
2.3 制備方法的重現(xiàn)性與復(fù)合材料的荷電穩(wěn)定性
2.4 四種電極材料電化學(xué)阻抗比較
2.5 復(fù)合材料的電磁損耗性能
2.6 三種材料對電磁波的反射損耗比較
3 結(jié)論
本文編號:3950648
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1 實驗部分
1.1 試劑與儀器
1.2 電極的制備
1.2.1 G-PEC的制備
1.2.2 4,4'-ODL-MIP-G-PEC的制備
1.2.3 4,4'-ODL-MIP/P-4,4'-ODL的制備
1.3 4,4'-ODL-MIP/P-4,4'-ODL復(fù)合材料荷電量測試
2 結(jié)果與討論
2.1 制備條件的優(yōu)化
2.2 電聚合制備4,4'-ODL-MIP/P-4,4'-ODL的機(jī)理
2.2.1 4,4'-ODL-MIP的制備
2.2.2 電聚合制備P-4,4'-ODL機(jī)理
2.3 制備方法的重現(xiàn)性與復(fù)合材料的荷電穩(wěn)定性
2.4 四種電極材料電化學(xué)阻抗比較
2.5 復(fù)合材料的電磁損耗性能
2.6 三種材料對電磁波的反射損耗比較
3 結(jié)論
本文編號:3950648
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