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分子印跡技術(shù)應(yīng)用于環(huán)境修復(fù)的研究進(jìn)展

發(fā)布時(shí)間:2024-01-08 19:12
  近年來(lái),環(huán)境中農(nóng)藥和抗生素殘留等問(wèn)題的環(huán)境修復(fù)逐漸引起國(guó)內(nèi)外廣泛的重視。本論文介紹了分子印跡技術(shù)在農(nóng)藥和抗生素殘留等環(huán)境修復(fù)方面的應(yīng)用,介紹了分子印跡技術(shù)在耦合磁分離和光催化技術(shù)方面的研究進(jìn)展,并對(duì)分子印跡技術(shù)在環(huán)境修復(fù)中的應(yīng)用前景進(jìn)行了展望。

【文章頁(yè)數(shù)】:3 頁(yè)

【文章目錄】:
1 分子印跡監(jiān)測(cè)環(huán)境污染物
    1.1 分子印跡技術(shù)監(jiān)測(cè)土壤中的農(nóng)藥殘留物
    1.2 分子印跡技術(shù)檢測(cè)環(huán)境中的抗生素
2 分子印跡在土壤修復(fù)中的研究發(fā)展趨勢(shì)
    2.1 磁性分子印跡聚合物
    2.2 分子印跡光催化選擇性降解或還原環(huán)境中的污染物
3 結(jié)論與展望



本文編號(hào):3877507

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