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高性能石墨相氮化碳基光催化材料的設計、制備及其活性

發(fā)布時間:2021-12-19 12:27
  半導體光催化技術是解決目前經濟社會發(fā)展所面臨的能源短缺和環(huán)境污染兩大問題的最具前景的路徑之一。該技術有望利用半導體材料將豐富清潔的太陽能轉化為可存儲運輸?shù)幕瘜W能如H2或甲醇,或者將太陽能作為能量源引發(fā)光催化氧化反應,處理難降解的有機污染物。開發(fā)和制備高效、穩(wěn)定、廉價的光催化劑是目前光催化技術最核心的問題。然而,盡管目前研究的光催化材料種類繁多,但還沒有一種光催化劑能滿足要求,致使光催化技術距離大規(guī)模應用還有距離。石墨相氮化碳(g-C3N4)因其具有原料來源廣泛、制備工藝簡單且化學穩(wěn)定性好等優(yōu)勢而成為了一種極具發(fā)展前景的光催化材料;但是嚴重的光生電子-空穴對的復合以及相對較小的可見光吸收范圍又致使g-C3N4的光催化活性不高。本論文從寬光譜吸收、高效電荷分離與傳輸、g-C3N4結構的納米功能化等策略出發(fā),致力于高活性的g-C3N4基光催化材料的研究,主要取得了以下研究成果:1.構建了一個基于范... 

【文章來源】:華南理工大學廣東省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】:151 頁

【學位級別】:博士

【部分圖文】:

高性能石墨相氮化碳基光催化材料的設計、制備及其活性


植物光合作用與人工模擬光合作用的半導體分解水對比示意圖,摘自參考文獻[9]

示意圖,半導體光催化,分解水,反應能


圖 1-2 半導體光催化分解水示意圖-2 Scheme illustration of semiconductor photocatalytic water s消耗 1.23 eV 的能量,因此為了使反應能順利進行,勢必得

半導體光催化,分解水,基本過程,光催化分解


圖 1-3 半導體光催化分解水反應的基本過程, 摘自參考文cheme illustration of basic process for semiconductor-baseplitting reaction, extracted from ref[13].出的是光催化分解水的反應基本過程,其主要包括以下三

【參考文獻】:
期刊論文
[1]石墨相氮化碳光催化劑研究進展[J]. 郭雅容,陳志鴻,劉瓊,張正國,方曉明.  化工進展. 2016(07)
[2]氫能源的利用現(xiàn)狀分析[J]. 趙永志,蒙波,陳霖新,王賡,鄭津洋,顧超華,張鑫,張俊峰.  化工進展. 2015(09)
[3]中國能源革命與低碳發(fā)展的戰(zhàn)略選擇[J]. 何建坤.  武漢大學學報(哲學社會科學版). 2015(01)
[4]中國資源型產業(yè)及制造業(yè)碳排放與工業(yè)經濟發(fā)展的關系[J]. 朱俏俏,孫慧,王士軒.  中國人口·資源與環(huán)境. 2014(11)



本文編號:3544417

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