發(fā)布時間：2021-10-13 17:37

　　以硅膠為基質(zhì),結(jié)晶紫為模板分子,甲基丙烯酸（MAA）為功能單位,N,N-亞甲基丙烯酰胺（MBA）為交聯(lián)劑,硅膠為載體,采用表面修飾分子印跡法,制備對結(jié)晶紫具有特定親和選擇性的分子印跡聚合物。應用紅外光譜對印跡聚合物進行表征,通過靜態(tài)吸附實驗優(yōu)化實驗條件,對聚合物的吸附行為進行分析,采用平衡結(jié)合實驗評價了分子印跡聚合物的吸附性能。結(jié)果表明,采用表面修飾分子印跡法所制備的印跡聚合物對結(jié)晶紫表現(xiàn)出較好的特異吸附,對模板分子最大吸附量值為22.04 mg/g。 

【文章來源】：山東化工. 2020,49(12)

【文章頁數(shù)】：3 頁

【部分圖文】：

活化硅膠、KH-550修飾和CV-Mips紅外光譜圖

影響分析物吸附效率的一個重要參數(shù)是樣品的p H值。采用推薦的方法研究不同p H值對結(jié)晶紫吸收的影響。在p H值為2～8時對溶液進行萃取分析，然后使用紫外光譜儀進行分析。從圖2可以看出，隨著p H值的增大，吸附率不斷增大，當溶液p H值為8時，吸附率最高，達到了80%以上，達到了良好的吸附效果。4.3 吸附動力學研究

研究了不同的振蕩時間(5～40min),CV-Mips對結(jié)晶紫萃取吸附率的影響。結(jié)果(圖3)表明，結(jié)晶紫的吸附量在前20min隨接觸時間的增加而迅速增加，達到非平衡曲線。這是因為吸附劑表面有大量的吸附位點，可以在吸附初期吸附大量的結(jié)晶紫。這表明，表面印跡大大促進了結(jié)晶紫向結(jié)合位點擴散，吸附是一個快速的動力學過程。4.4 吸附容量

【參考文獻】：
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本文編號：3435109