In 2 S 3 微/納米晶及其復(fù)合材料的可控合成和性能研究
發(fā)布時間:2021-10-06 17:55
過去幾十年來,工業(yè)的發(fā)展帶來了水污染問題和能源問題解決這些問題已迫在眉睫。半導(dǎo)體光催化技術(shù)被人們廣泛的認(rèn)為是解決能源問題和水污染問題的有效方法。β-In2S3是缺陷尖晶石結(jié)構(gòu)的窄帶縫的光催化劑,由于能在可見光下響應(yīng)而被廣泛的應(yīng)用在光催化領(lǐng)域。本課題通過調(diào)控反應(yīng)條件制備出具有良好光催化性能的純相In2S3光催化劑。成功的合成了 RGO@In2S3復(fù)合催化劑、Ag/In2S3光催化劑和RGO/Ag/In2S3三元光催化劑,有效的抑制了 In2S3光生載流子的復(fù)合,提高了材料的光催化性能。(1)通過優(yōu)化水熱法過程中的反應(yīng)溫度和溶劑(水和乙醇的比例)合成In2S3光催化劑。研究了不同反應(yīng)條件下合成的In2S3光催化劑的形貌、結(jié)構(gòu)、光電性能和光催化性能之間的關(guān)系。結(jié)果表明:當(dāng)反應(yīng)溶劑是水、反應(yīng)溫度180℃時,水熱反應(yīng)12 h時合成的In2S3光催化劑具有優(yōu)異的結(jié)晶性,這有效的促進(jìn)了光生載流子的分離和傳輸。(2)采用一步水熱法成功制備了 RGO@In2S3光催化劑。通過調(diào)控GO加入量來研究RGO@In2S3光催化劑的形貌、微觀結(jié)構(gòu)、光電性能及光催化性能的影響。結(jié)果表明:在RGO和In2S3費米能級...
【文章來源】:陜西科技大學(xué)陜西省
【文章頁數(shù)】:75 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1-1?p-n光催化反應(yīng)過程機(jī)理圖[18]??Fig.?1-1?The?mechanism?diagram?of?photocatalytic?reaction?process^18】??
生本質(zhì)上的改變,如會產(chǎn)生光吸收藍(lán)移、能帶寬化??等現(xiàn)象,這些現(xiàn)象都有助于材料光催化性能的改善。??-2?r?N,''??|?減咖?band?Slt.??hHniiiMi?''.lias?^?/i-^uuo??(-n?IHVlU?r),??i?i?I?>?一?>?/n〇r,<,?■?—HO;>aqM^??,??|-5?0?*?2?■?^??Wi?^?"?'?■?—,?鑛??丨?!?+?H?1?札d?nl?山:??Vtkncc?hand???1?-8?o?L??圖1-2常見半導(dǎo)體光催化劑能帶結(jié)構(gòu)[2°1??Fig.?1-2?The?energy?band?structure?of?common?photocatalyst120】??(3)光生載流子的分離和遷移效率。在光能的激發(fā)下,光催化劑的價帶電子受到激??發(fā)遷移到導(dǎo)帶,在價帶留下對應(yīng)的光生空穴,即產(chǎn)生了成對的電子-空穴對。電子-空穴對??會直接或者間接的參與整個光催化反應(yīng)過程。但是激發(fā)的電子和空穴對中部分/大部分的??電子和空穴發(fā)生從新復(fù)合,電子和空穴的復(fù)合是阻礙材料光催化性能提升的重要原因之??一。因此,改善電子-空穴分離效率是提高光催化劑性能的重要途徑1221,常見的措施有調(diào)??控形貌結(jié)構(gòu)[?25】、構(gòu)建異質(zhì)結(jié)構(gòu)^26—281、與碳材料復(fù)合l2W11、助催化劑的改性[&341等,??這些措施會在后文進(jìn)行詳細(xì)陳述。??1.3?In2S3材料研宄背景及應(yīng)用??1.3.1?ImS3材料的研宄背景??硫化銦(In2S3,?in-IV族硫化物)一種重要的半導(dǎo)體材料。主要有三種晶型,分別是缺??陷立方結(jié)構(gòu)的a-ln2S3、缺陷尖晶石結(jié)構(gòu)的(3-In2S
載流子的??復(fù)合得到了抑制,丨n2S3/Bb〇2C〇3對RhB的降解效率分別是丨n2S3*?Bi202C03?3倍和5??倍,且ImS3/Bi2〇2C03具有良好的循環(huán)穩(wěn)定性。??,?SCI?sen?■、?SCI?sen?sci?sai?j??(?)?、?(b)?1一 ̄⑷:???D<V??*?1【?*?It?Z?“TTF"疆?L??Type?I?hctcrojunction?Type?II?hctcrojunction?Type?III?heterojunction??圖1-3?:⑻丨型(嵌入式屏質(zhì)結(jié);(b)ii型(交錯式)異質(zhì)結(jié);(c)in型(斷裂式屏質(zhì)結(jié)[67】??Fig.1-3:?Type?I?heterojunction;?(b)?Type?II?heterojunction;?(c)?Type?III?heterojunctiont67!??進(jìn)一步為解決異質(zhì)結(jié)構(gòu)導(dǎo)致電子和空穴的氧還原能力降低的問題,研究者們發(fā)現(xiàn)可??以通過設(shè)計Z-型結(jié)構(gòu)光催化劑來有效解決該問題。Z-型結(jié)構(gòu)包括直接型Z-型結(jié)構(gòu)和間接??型Z-型結(jié)構(gòu)(如圖1-4);它不僅能起到普通異質(zhì)結(jié)構(gòu)分離載流子的作用,同時還不會損??害電子和空穴的氧化還原能力。Yan^等人通過水熱法和均勻沉淀法兩步合成??Ag3P〇4/AgAn2S3,TEM結(jié)果顯示在Ag3P04和丨n2S3界面形成穩(wěn)定的Ag3P04-Ag-In2S3間??接Z-型異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)。??w?A?.??Conductor??(a??SCI?丄』(b>?SCI?g-C.N,??dw?>_Lxa?dw?I?vn??")Wirh-hh???-B—V>??j??圖M:?Z-型異
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Suitable energy platform significantly improves charge separation of g-C3N4 for CO2 reduction and pollutant oxidation under visible-light[J]. Amir Zada,Nauman Ali,Fazle Subhan,Natasha Anwar,Muhammad Ishaq Ali Shah,Muhammad Ateeq,Zahid Hussain,Khair Zaman,Momin Khan. Progress in Natural Science:Materials International. 2019(02)
[2]原位反應(yīng)制備ZnS/還原氧化石墨烯復(fù)合材料及其光催化性能[J]. 鐵偉偉,杜兆禹,高遠(yuǎn)浩,朱聰旭. 復(fù)合材料學(xué)報. 2017(05)
[3]基于能帶結(jié)構(gòu)理論的半導(dǎo)體光催化材料改性策略[J]. 王丹軍,張潔,郭莉,申會東,付峰,薛崗林,方軼凡. 無機(jī)材料學(xué)報. 2015(07)
[4]Citric acid-assisted synthesis of nano-Ag/BiO Br with enhanced photocatalytic activity[J]. Xiuli Li,Xiaoming Mao,Xiaochao Zhang,Yunfang Wang,Yawen Wang,Hui Zhang,Xiaogang Hao,Caimei Fan. Science China Chemistry. 2015(03)
本文編號:3420482
【文章來源】:陜西科技大學(xué)陜西省
【文章頁數(shù)】:75 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1-1?p-n光催化反應(yīng)過程機(jī)理圖[18]??Fig.?1-1?The?mechanism?diagram?of?photocatalytic?reaction?process^18】??
生本質(zhì)上的改變,如會產(chǎn)生光吸收藍(lán)移、能帶寬化??等現(xiàn)象,這些現(xiàn)象都有助于材料光催化性能的改善。??-2?r?N,''??|?減咖?band?Slt.??hHniiiMi?''.lias?^?/i-^uuo??(-n?IHVlU?r),??i?i?I?>?一?>?/n〇r,<,?■?—HO;>aqM^??,??|-5?0?*?2?■?^??Wi?^?"?'?■?—,?鑛??丨?!?+?H?1?札d?nl?山:??Vtkncc?hand???1?-8?o?L??圖1-2常見半導(dǎo)體光催化劑能帶結(jié)構(gòu)[2°1??Fig.?1-2?The?energy?band?structure?of?common?photocatalyst120】??(3)光生載流子的分離和遷移效率。在光能的激發(fā)下,光催化劑的價帶電子受到激??發(fā)遷移到導(dǎo)帶,在價帶留下對應(yīng)的光生空穴,即產(chǎn)生了成對的電子-空穴對。電子-空穴對??會直接或者間接的參與整個光催化反應(yīng)過程。但是激發(fā)的電子和空穴對中部分/大部分的??電子和空穴發(fā)生從新復(fù)合,電子和空穴的復(fù)合是阻礙材料光催化性能提升的重要原因之??一。因此,改善電子-空穴分離效率是提高光催化劑性能的重要途徑1221,常見的措施有調(diào)??控形貌結(jié)構(gòu)[?25】、構(gòu)建異質(zhì)結(jié)構(gòu)^26—281、與碳材料復(fù)合l2W11、助催化劑的改性[&341等,??這些措施會在后文進(jìn)行詳細(xì)陳述。??1.3?In2S3材料研宄背景及應(yīng)用??1.3.1?ImS3材料的研宄背景??硫化銦(In2S3,?in-IV族硫化物)一種重要的半導(dǎo)體材料。主要有三種晶型,分別是缺??陷立方結(jié)構(gòu)的a-ln2S3、缺陷尖晶石結(jié)構(gòu)的(3-In2S
載流子的??復(fù)合得到了抑制,丨n2S3/Bb〇2C〇3對RhB的降解效率分別是丨n2S3*?Bi202C03?3倍和5??倍,且ImS3/Bi2〇2C03具有良好的循環(huán)穩(wěn)定性。??,?SCI?sen?■、?SCI?sen?sci?sai?j??(?)?、?(b)?1一 ̄⑷:???D<V??*?1【?*?It?Z?“TTF"疆?L??Type?I?hctcrojunction?Type?II?hctcrojunction?Type?III?heterojunction??圖1-3?:⑻丨型(嵌入式屏質(zhì)結(jié);(b)ii型(交錯式)異質(zhì)結(jié);(c)in型(斷裂式屏質(zhì)結(jié)[67】??Fig.1-3:?Type?I?heterojunction;?(b)?Type?II?heterojunction;?(c)?Type?III?heterojunctiont67!??進(jìn)一步為解決異質(zhì)結(jié)構(gòu)導(dǎo)致電子和空穴的氧還原能力降低的問題,研究者們發(fā)現(xiàn)可??以通過設(shè)計Z-型結(jié)構(gòu)光催化劑來有效解決該問題。Z-型結(jié)構(gòu)包括直接型Z-型結(jié)構(gòu)和間接??型Z-型結(jié)構(gòu)(如圖1-4);它不僅能起到普通異質(zhì)結(jié)構(gòu)分離載流子的作用,同時還不會損??害電子和空穴的氧化還原能力。Yan^等人通過水熱法和均勻沉淀法兩步合成??Ag3P〇4/AgAn2S3,TEM結(jié)果顯示在Ag3P04和丨n2S3界面形成穩(wěn)定的Ag3P04-Ag-In2S3間??接Z-型異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)。??w?A?.??Conductor??(a??SCI?丄』(b>?SCI?g-C.N,??dw?>_Lxa?dw?I?vn??")Wirh-hh???-B—V>??j??圖M:?Z-型異
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Suitable energy platform significantly improves charge separation of g-C3N4 for CO2 reduction and pollutant oxidation under visible-light[J]. Amir Zada,Nauman Ali,Fazle Subhan,Natasha Anwar,Muhammad Ishaq Ali Shah,Muhammad Ateeq,Zahid Hussain,Khair Zaman,Momin Khan. Progress in Natural Science:Materials International. 2019(02)
[2]原位反應(yīng)制備ZnS/還原氧化石墨烯復(fù)合材料及其光催化性能[J]. 鐵偉偉,杜兆禹,高遠(yuǎn)浩,朱聰旭. 復(fù)合材料學(xué)報. 2017(05)
[3]基于能帶結(jié)構(gòu)理論的半導(dǎo)體光催化材料改性策略[J]. 王丹軍,張潔,郭莉,申會東,付峰,薛崗林,方軼凡. 無機(jī)材料學(xué)報. 2015(07)
[4]Citric acid-assisted synthesis of nano-Ag/BiO Br with enhanced photocatalytic activity[J]. Xiuli Li,Xiaoming Mao,Xiaochao Zhang,Yunfang Wang,Yawen Wang,Hui Zhang,Xiaogang Hao,Caimei Fan. Science China Chemistry. 2015(03)
本文編號:3420482
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